VIP 專屬文章 製造尖端晶片的最後一哩路：中國拿到EUV曝光機了嗎？經濟學人：看起來不像，但美荷半導體防線已浮現裂痕

​自2019年起，美國政府開始禁止對中國出口用於製造最先進半導體的極紫外光（EUV）曝光機，由於這種設備全球只有荷蘭的艾斯摩爾（ASML）能夠生產，這項禁令顯然管制的對象不是美國的公民或者是公司，而是限制了外國企業的交易對象。艾斯摩爾幾年來都照章辦事，不過美國商務部長盧特尼克（Howard Lutnick）最近抱怨，該公司生產的EUV「可能已經流向中國」。這場曝光機走私疑雲，也讓美荷半導體防線出現致命裂痕。

放眼當前的美中科技戰，中國雖然靠著稀土王牌，逼停了川普發動的關稅大戰，但在晶片甚至是AI領域，美國及其盟友還是保有領先。主要原因就是中國拿不到也造不出EUV，自然做不出尖端晶片，就算硬做出來了良率也拉不起來。不過《經濟學人》5日刊文〈中國是不是已經到手『世界上最重要的機器』？〉（Has China obtained the world『s most important machine），談的正是極紫外光的曝光機。

​針對盧特尼克的指控，ASML表示「絕無可能」，美方也沒有提出進一步的證據。這家歐洲市值最高的公司對美方強調，該公司所生產的340台EUV曝光機，每一台的確切位置都在掌握之中，就連所有零件與已經退役的26台也不例外。ASML表示，這340台曝光機「沒有任何一台位於中國」，所有曝光機的零件也都是由ASML工程師在客戶的晶圓廠內進行處理，「ASML從未對中國運送EUV曝光機，也從未向中國運送專為EUV曝光機設計的零組件、模組或設備」。

荷蘭貿易部長史卓瑪（Sjoerd Sjoerdsma）日前訪問華府，再次強調荷蘭政府嚴格執行出口管制，包括對極紫外光（EUV）技術的管制，但他不願透露與盧特尼克的談話細節。這場曝光機外流疑雲的關鍵，表面上是盧特尼克的指控是否有憑有據，業界專家多半認為，整台EUV曝光機被運往中國的可能性極低，問題可能出在零組件透過供應商或第三方外流，甚至是目前尚未受到管制的深紫外光（DUV）曝光設備與對中服務（2025年的對中出口佔了ASML營收的三分之一），引發美方後續的敲打。

不過《經濟學人》認為，這場爭議的深層分歧，其實是歐洲與美國在如何應對中國科技進步的做法差異。部分美國官員批評歐洲的對華政策過於軟弱，歐洲政府卻擔心，川普政府自己與中國達成優惠協議，同時損害了歐洲的經濟與安全利益。對於川普政府試圖強迫ASML等企業將更多業務轉移美國，協助發展當地的半導體產業，部分歐洲官員及企業高管對此也感到擔憂。對於美國採取的加強管制，歐洲也擔心會引發北京報復。 （相關報導： 習近平真敢封鎖台灣嗎？CSIS戳破「麻六甲困局」迷思：台海一旦被封，將是中國經濟災難 ｜ 更多文章 ）

按照ASML的說法，中國其實不太可能拿到整台EUV曝光機，但另一個關鍵問題是，中國對於EUV曝光機的自主研發工作，目前究竟進展如何？《路透》去年12月曾經報導，由一支前ASML工程師組成的團隊，已在中國做出一台EUV曝光機的原型機，並在深圳一處高度保密的實驗室進行測試。ASML對此強調，離職員工都簽有保密協議，若涉及竊取商業機密，該公司也會採取法律行動。

不過《路透》也指出，正在深圳測試的EUV曝光機目前尚未實際生產晶片，但北京已經設定「2028年之前上線」的目標，只是業界專家即便認同中國在極紫外光方面進展快速，多數依舊認為「後年上線不切實際」，中國想自己做出能用的EUV曝光機，至少還需要十年時間。至於在深紫外光（DUV）方面，中芯國際（SMIC）和華為已經利用多重曝光技術（multi-patterning）製造出7奈米以下的晶片，儘管這種做法良率較低、成本極高，但專家也警告，這已足以讓中國量產數百萬顆先進晶片，在AI競逐中緊咬美國不放。

為了全面圍堵缺口，美國的應對策略還包括旨在重組西方AI供應鏈的新聯盟「矽盛世」（Pax Silica）。這項倡議在去年12月啟動，範圍涵蓋能源、關鍵礦物、先進製造到AI模型，目前已獲24國簽署支持，包括歐盟與荷蘭——後者正是外貿部長上個月訪美期間簽署。《經濟學人》指出，「矽盛世」聯盟有望讓理念相近的國家更容易分享尖端技術，也統一EUV的出口管制作業。

另一項更具侵略性、更具爭議的倡議，則是今年4月獲得國會山莊跨黨派支持的《MATCH法案》。這項法案不僅企圖完全封鎖DUV曝光機銷往中國，更限制ASML為中國現有的數百台DUV設備提供售後維修、零件更換及軟體支援。這項法案還對荷蘭等盟國下達150天最後通牒，要求出口管制必須與美方完全同步，否則將啟動「外國直接產品規則」（Foreign Direct Product Rule，簡稱FDPR）進行制裁。

根據「外國直接產品規則」，任何外國產品只要使用源自美國的技術製造，就要受到美國的出口管制規範約束，因此ASML一旦違規，恐將面臨天價罰款、甚至被趕出美國市場。前五角大廈聯合人工智慧中心（JAIC）策略與政策總監、現任華府智庫「戰略與國際研究中心」（CSIS）高級研究員葛瑞格里・艾倫（Gregory Allen）直言：「我不支持只是客氣地拜託企業『別這麼做』，我支持直接立法讓這件事變成違法。」

雖然《MATCH法案》八字還沒一撇，不過荷蘭的外貿部長史卓瑪坦言，從荷蘭的角度來看，這項法案「非常令人遺憾」。史卓瑪也對美國法律的「長臂管轄」表達憂慮，同時指出美國政策的矛盾之處：川普政府一方面強烈要求歐洲限制DUV設備出口，另一方面卻放行輝達（Nvidia）對中國出口更高階、需要EUV設備才能製造的AI晶片。

史卓瑪接下來預計訪問中國，北京當局已強烈譴責《MATCH法案》，最近更授權對配合美國制裁或出口管制的外國企業祭出懲處。荷蘭先前已嚐到苦頭，2025年9月，荷蘭政府宣布接管中資持有的荷蘭晶片製造商安世半導體（Nexperia），阻止業務外移中國；北京隨即展開報復，全面封鎖安世半導體從中國出口零組件，導致歐洲與日本車廠的供應鏈大亂。 （相關報導： 習近平真敢封鎖台灣嗎？CSIS戳破「麻六甲困局」迷思：台海一旦被封，將是中國經濟災難 ｜ 更多文章 ）

《經濟學人》指出，在美國遲遲拿不出指控證據的情況下，盧特尼克指控所引發的爭議可能會隨時間淡出。不過對於日益白熱化的美中科技戰來說，這只是爭奪AI關鍵技術的第一波攻勢。可以預見的是，讓ASML懷璧其罪的EUV曝光機與這間荷蘭公司，絕不是最後一次被迫捲入美中對抗的漩渦。