# 光刻機  

美國針對半導體製造設備進行出口管制，限制中國取得高階曝光機，不過除了先進製程使用的極紫外光（EUV）設備外，由美國研究機構CTS、美前出口管制官員撰寫的最新報告指出，中國晶片商仍獲得了高達343台的深紫外光（DUV）曝光機，其中大多是ASML的產品，顯示出口管制依然存在漏洞，呼籲美國與盟友「全面禁止對中國出口浸潤式DUV設備」。港媒《南華早報》指出，總部位於......

全球晶圓製造龍頭台積電與曝光機大廠艾司摩爾（ASML）今（8）日宣布發起合作，共同引領半導體產業轉移升級至更大尺寸的極紫外光（EUV）微影光罩，High NA EUV將自現行的6吋光罩，轉移至更大的12吋光罩，計劃於2031年前建立試產線，2033年導入先進製程量產。台積電與ASML表示，從6吋光罩轉移至12吋光罩，預期將進一步提升晶圓廠的生產力、降低晶片製......

荷蘭曝光機設備巨頭艾司摩爾（ASML）的關鍵供應商、德國蔡司集團高管稱，中國在研發尖端曝光機設備方面仍落後約15年。蔡司半導體部門負責人羅蒙德（Frank Rohmund）接受彭博社訪問時說，中國可能需要15年才能研發出極紫外光（EUV）曝光機，這是一個「合理的估計」，但他補充說，由於相關技術進展難以量化，目前很難準確判斷中國的實際水準。艾司摩爾是世界上唯一......

中國已開始量產自主研發的浸沒式（Immersion）DUV（Deep Ultraviolet，深紫外）光刻機，今年預計交付約五台設備，首批客戶包括中芯國際（SMIC）、華虹半導體，以及長鑫存儲（CXMT）。這也是中國首次進入浸沒式DUV光刻機的量產階段，被視為北京推動半導體自主供應鏈的重要里程碑。據悉，這項計畫由上海愛生納電子科技集團（Shanghai Ai......

近來有不少訊息顯示─或至少是讓人擔心一件事：美國是否正從中美競爭中敗退下來？從2018年川普首任期中啟動對中國的貿易戰開始，過去中美之間默默不明說的競爭浮出檯面且趨於白熱化；關稅戰方面，藉著高關稅與聯合盟友，要壓制中國的出口與經濟；在科技戰方面，主要是在晶片技術對中國的封鎖，近幾年則擴及AI技術；對被視為未來最支柱型的新能源產業，則以高關稅阻擋；拜登時代組建......

AI浪潮帶動半導體需求強勁，晶片產能供不應求，也讓全球曝光機巨頭艾司摩爾（ASML）獲利高漲，不過市場也傳出ASML打算漲價，財務長達森（Roger Dassen）表示，「目前我們正與客戶討論這些議題」。而美媒《The Information》進一步透露，ASML的最大客戶，也就是台積電對漲價表示反對，更不願輕易妥協。報導指出，ASML財務長達森在財報電話會......

自2019年起，美國政府開始禁止對中國出口用於製造最先進半導體的極紫外光（EUV）曝光機，由於這種設備全球只有荷蘭的艾斯摩爾（ASML）能夠生產，這項禁令顯然管制的對象不是美國的公民或者是公司，而是限制了外國企業的交易對象。艾斯摩爾幾年來都照章辦事，不過美國商務部長盧特尼克（Howard Lutnick）最近抱怨，該公司生產的EUV「可能已經流向中國」。這......

1.4奈米製程成為晶圓代工下一個主戰場，最大巨頭台積電的A14預計將於2028年開始量產；英特爾也加速推進其14A製程，傳出包括馬斯克的巨型晶圓廠TeraFab、蘋果（Apple）等重要客戶排隊已預訂採用。而最新報導指出，三星已重新啟動代號「SF1.4」的製程，但將量產時程延後至2029年，準備重新迎戰1.4奈米。根據韓媒《TheBell》報導指出，三星正在......

2019年，在為一本關於美中競爭的書進行調研期間，我參觀了華為（Huawei）在東莞新建的龐大研發園區。這裏距離華為的深圳總部約有一小時車程。該園區景象令人嘆為觀止：佔地300英畝，容納了2.5萬多名員工，建有12個仿照巴黎、盧森堡等城市的歐洲風格「小鎮」，這些小鎮由一列仿照深圳地鐵打造的小火車連接。一位華為高管一本正經地向我解釋這一設計：「我們在歐洲發展得......

全球曝光機之王 ASML，由一個工程師開發出了自家曝光機的樂高玩具，真正的 EUV 曝光機有超過 10 萬個零件，而迷你版模型的零件不到 1,000 個，其中包括一個代表極紫外光的紫色閃電，以及一個身穿連體防塵服的樂高小人，組裝說明書長達 61 頁。這款樂高只限定員工購買，但目前太熱門，只有少數二手品流通！若把全套光刻機樂高帶回家，大約得付 4,500 美元......

AI第一張骨牌快要倒下？甲骨文巨額債務湧現，華爾街消化能力已逼近極限…甲骨文公司(Oracle)之前與OpenAI達成的3,000億美元巨額交易，對於借錢給他們的華爾街大行來說，最近越來越頭痛。知情人士透露，包括摩根大通(JPMorgan Chase)在內的多家銀行，數月來一直舉步維艱，試圖分攤甲骨文興建資料中心產生的數十億貸款風險。摩根士丹利分析師指出，即......

美國對中實施出口管制，其中製造晶片的關鍵設備，極紫外光（EUV）曝光機是重點之一，而中國半導體業準備再面臨新一波衝擊，因為美國兩黨國會議員正聯手推動《MATCH法案》，禁止ASML進一步對中出口性能低一階的深紫外光（DUV）曝光機。外媒《Wccftech》報導提到，美國限制EUV設備出口中國，儘管促使了北京加速本土晶片供應鏈的建設腳步，但也成功限制中國在先進......

隨著 GPU 晶片登上 AI 主舞台，nVIDIA 輝達成為新世代科技產業主角，2025年上演了一場科技產業的典範轉移大戱。馬斯克才在月餘前誇口特斯拉的智能機器人擎天柱今年將量產出貨；猶言在耳，今年大陸春晚智能機器人打醉拳、後空翻，標示著2026年將是人工智能機器人大暴發的一年。然而在輝達＋台積電這場由台灣人主導的新世代科技革命浪潮之中，在邁入2026年當中......

記憶體爆發全球嚴重缺貨潮，造成電腦等下游產品價格也飆漲，讓有些消費者開始將目光投向中國記憶體廠商，例如長鑫存儲（CXMT）與長江存儲（YMTC），希望中企能夠利用龐大產能，穩定市場供應讓價格回落。不過外媒《Wccftech》分析指出，真實的供應鏈對於消費者來說完全不同，更直言「這種情況可能永遠不會發生」。報導指出，DRAM短缺導致零售市場日益惡化，玩家越來越......

台美關稅協議正式敲定，雖稅率調降為15%、享有232條款最惠國待遇，但有部分聲音質疑以台積電為首的台灣企業將投資美國2500億美元，不過觀察競爭對手南韓方面，韓媒《韓國經濟日報》指出，三星已動員7000名員工到美國德州的泰勒晶圓廠，以加快在美量產2奈米的腳步，並將於3月啟動EUV曝光機的試運轉。​科技媒體《Wccftech》引述該新聞，指出三星未來計畫在美國......

中國國家主席習近平在2015年提出「中國製造2025」計畫，如今10年期限已過，對此，財信傳媒董事長謝金河在臉書發文指出，中國的「彎道超車」確實取得相當成就，但中國毫不尊重智慧財產權、剽竊技術，有間台商高管更曾被中國收買，定期匯報偷技術的進度，直言「彎道超車伴隨而來的是車毀人亡」。謝金河表示，再過幾天，習近平在第二任期提出的「彎道超車：中國製造2025」就要......

美國對中祭出晶片禁令，限制高階晶片與曝光機等半導體製造設備，不過《路透》最新報導透露，中國已成功打造出首台極紫外光（EUV）曝光機原型機。對此，科技媒體《Wccftech》直言，這標誌著中國在半導體領域，取得了美國一直以來所憂心的突破，儘管中國仍仰賴舊世代的零件，但表現仍被形容為「令人震驚」。​​​《路透》報導指出，此原型機於2025年初完成，目前正進行測試......

中國科技巨頭華為在先進晶片設計與製造方面持續取得進展，顯示在多重出口管制與技術封鎖之下，中國本土半導體產業鏈仍在加速推進自主化。對此，科技力智庫執行長烏凌翔指出，從全球來看，使用美國AI大模型的人仍然較多，且美方甚至有能力採取閉源策略；而中國則盡量採用開源方式，將市場開放，短期上來看有些利益可能會犧牲掉，可是中國就要搶占市場。烏凌翔在風傳媒節目《下班國際線》......

根據外媒《Investing.com》報導，美國銀行最新報告指出，荷蘭晶片設備大廠艾司摩爾（ASML）正進入多年的上升周期，受惠於光刻技術使用強度提升、獲利加速成長，以及自由現金流大幅改善，因此被納入其「2026年半導體選股首選」名單，同時將目標價自先前的986歐元上調至1158歐元，並維持「買進」評等。分析師預期，隨著艾司摩爾在客戶支出中的佔比擴大，以及更......

美國總統川普強力推動半導體「美國製造」，而現在不只台灣晶片龍頭台積電赴美設立晶圓廠，荷蘭曝光機大廠艾司摩爾（ASML）也宣布在美國亞利桑那州開設第一座訓練中心，旨在滿足美國本土晶片產業日益增長的人才需求，同時也代表ASML成了台積電在美國的鄰居。根據《路透》報導指出，這座設施僅距離鳳凰城機場數分鐘的車程，設計目標是每年訓練超過1000名工程師，讓他們具備維修......

2奈米晶圓生產目前仍離不開艾司摩爾（ASML）的EUV（極紫外光）曝光機，科技媒體《Wccftech》報導指出，ASML已經出動組建專門團隊，協助三星在美國的德州泰勒新廠，安裝這些關鍵的曝光機，也代表三星德州廠即將正式啟用。​報導引述韓媒《Fnnews》消息指出，ASML近期在美國德州發布徵才訊息，尋找「現場服務工程師」（field service engi......

上海新創公司宇量昇打造曝光機並生產7奈米晶片，9月傳出初步測試結果正面，尚未得知何時將能晶片量產。而宇量昇為中國華為體系的半導體設備製造商，對此，科技力智庫執行長烏凌翔於YouTube頻道《烏鴉笑笑》中，引述中國消息來源指出，宇量昇共生產3座曝光機，並分別交付予3家晶圓廠座調整測試。 烏凌翔表示，中國許多大專院校及科研單位，均加入一項所謂「全國一盤棋」的曝......

美中科技戰從2018年由川普政府吹響集結號後，美國以一系列出口禁令，意圖鎖死中國發展先進半導體的任何可能性。然而這場圍堵戰不僅未能扼殺中國的野心，反而在壓力下催生出一套獨特的「繞行」戰術。當世界還在驚嘆中國AI軟體公司「深度求索」（DeepSeek）如何用更少算力訓練出頂尖模型時，中國的硬體製造商也在上演一場更為艱鉅的正面突圍戰。《經濟學人》22日指出，中方......

台積電2奈米即將量產，並同時往1.4奈米製程研發邁進，不過在「埃米時代」中，台積電不打算使用艾司摩爾（ASML）最先進的「高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）」曝光機，引起產業關注。對此，科技媒體《Wccftech》指出，台積電使用「另一項技術」，來替代一台單價4億美元的最新曝光機，無疑更具成本效益，不過也有缺點需要克服。報導表示，台積電隨著進一步邁......

台積電將於2025年底啟動2奈米製程量產，同時也持續往更先進的1.4奈米邁進，根據科技媒體《Wccftech》報導，台積電將在台灣本地展開1.4奈米生產線的初步建設，但值得注意的是，其不打算採用艾司摩爾（ASML）最新的高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）曝光機，讓台積電在研發A14時，必須不斷採行試錯法來改進製程。報導指出，台積電計畫於今年底在台中......

大陸十一長假剛結束，中國商務部聯手海關總署「6箭齊發」，連續發布6項公告，包括稀土技術出口管制、鋰電池相關物項出口管制、將外國實體列入不可靠實體清單、對美船舶收取特別港務費、對高通（Qualcomm）公司立案調查以及特定晶片研發生產相關的稀土用途進行重點審查等。劍指誰人已相當清楚，乃中國對美國祭出一系列的反制措施。攻守互換，中國對美國「卡脖子」？不久前的9月......

ASML是全球半導體設備產業的領導者，也是全球最大的晶片微影設備供應商。對此，追蹤ASML發展超過10年的荷蘭科技記者兼專欄作家馬克．海因克（Marc Hijink）接受《風傳媒》節目《下班國際線》專訪時表示，台積電的巨大成功正是建立在和ASML擁有一樣的特質上，它們扮演中立的角色，是半導體業的瑞士，這是這些公司的共同特質。海因克提到，當前晶片產業極度依賴少......

美國總統川普日前與歐盟敲定關稅協議，稅率調降為15%，不過包括半導體設備等戰略性產品，則是獲得零關稅豁免。而外國科技媒體指出，這代表艾司摩爾（ASML）所製造的曝光機，對美國也享有零關稅優惠，間接為台積電、三星等在美設廠的晶圓製造商助攻，帶來利多。針對美歐貿易協議，歐盟執委會日前聲明表示，已就若干戰略產品達成雙邊零關稅協議，這些產品包括所有飛機及其零組件、特......

美國對中祭出晶片禁令，中國無法取得先進曝光機（EUV），晶圓製造技術依然落後於主流先進製程，華為最先進晶片仍採用7奈米。不過最近有消息傳出，中芯研發的5奈米製程「良率已達60%到70%」，驚人數字瞬間在網上瘋傳，不過這說法並不被許多專家買單，外國知名科技爆料者也直言，據外媒《Wccftech》報導，中國爆料者「定焦數碼」在微博上指出，中芯5奈米良率已達60%......

中國已有一台DUV（深紫外光）光刻原型機交付上海晶圓廠測試的消息，最近引發媒體關注。這台原型機雖然不是更先進的EUV（極紫外光），更還談不上商用程度，但在美國及其盟友日益收緊的出口管制下，中國確實正在傾全國之力加速半導體設備的國產化進程。一般認為中國即便造得出航空母艦、電動車、無人機，但面對光刻機這道天塹，恐怕北京也只能徒呼負負。不過如同華為在技術封鎖下，依......

中國近年受美國科技制裁影響，光刻設備受進口禁令限制，中國能否自製所需要的高階晶片受到全球關注。對此，科技力智庫執行長烏凌翔在網路節目《烏鴉．笑笑》中指出，中國已有一座較先進的DUV原型機已交付上海晶圓廠測試，該原型機由上海這公司研發製造，目前仍在調試完善中。烏凌翔說明，宇量昇科技有限公司為半導體設備製造商新凱來的子公司，位於華為半導體生態系中，主要研發半導體......

近期中國半導體產業不斷有技術突破的消息傳出，包括先進晶片製程，以及有望自主研發光刻機設備等。「中國半導體領頭羊」之一的張汝京，日前受全美保釣促統聯合會邀請，透過視訊會議，以「中國半導體25年來之發展」為題發表演講，《風傳媒》獨家採訪。他預估，快則兩年，慢則三至四年，中國大陸可以解決光刻機光源問題。張汝京也坦言，先進AI晶片生產上的限制，還是需要突破。從落後世......

中國正逐步實現「中國製造2025」目標，儘管面臨美國的科技圍堵，在包括AI晶片、機器人、太空科技等領域皆慢慢站穩腳跟。媒體人陳鳳馨在節目《風向龍鳳配》表示，中國正透過政府政策的長期投入，建立一條以自主科技研發，生產為核心的經濟模式，儘管辛苦，但已達到「你殺不死他了」的程度。​陳鳳馨引述日經調查，認為華為走的AI發展路徑，是與輝達完全不同方式，為了突破美國的圍......

台積電在23日重量發表下一世代的先進製程技術「A14」，其製程來到1.4奈米，不過也透露A14將不會使用目前最先進的「高數值孔徑極紫外光」（High-NAEUV）曝光機。而外媒《wccftech》對此報導指出，台積電基於成本取捨放棄採用高NA技術，但英特爾將於明年推出的18A製程反而採用，意味著台積電將在採用最新技術方面落後英特爾至少4年，可能會讓對手取得技術競爭優勢。

中美科技戰也隨著關稅緊張而加劇，美國日前限制輝達H20晶片對中出口，對此，分析師蔡明翰在網路節目《Catch大錢潮》上指出，美國當初封殺中國半導體，雖反而讓中國技術高速成長，但隨著無法取得更先進光刻機，中國未來很難再繼續快速突破。

隨著美國總統川普對等關稅威脅升溫，以及市場對AI晶片需求前景轉趨保守，荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）今（16）日公布出第一季財報，訂單較上季銳減45%，凸顯半導體產業需求放緩的隱憂。對此，財經作家狄驤發文指出，ASML釋出有極大不確定性的財報，讓2大廠盤前同步大跌，而明天台積電要開法說會，他個人認為驚喜的機率更高。

中國半導體設備傳出最新突破，據中媒《快科技》報導，中國科學院近日成功研發突破性的深紫外光曝光機(DUV)，可發射波長193nm的光子，與目前主流波長一致，理論上能將半導體工藝推進至3奈米，並且在技術上與艾司摩爾（ASML）、佳能（Canon）、尼康（Nikon）等國際大廠不同；不過目前輸出功率、頻率都與商用水準有落差，仍需繼續研發。

中國在美國晶片制裁下積極實現半導體製造自主，而在生產過程最為重要的光刻機發展上，近期傳出有所突破。媒體人烏凌翔在節目《烏鴉笑笑》中提到，中國有一座比較先進的自製光刻機近來已交付中芯（SMIC），推測應是由深圳新凱來所製造出的原型機，不過距離實際的應用，仍有一大段的距離需要克服。

說起蔡司，大家會直接聯想到的是什麼？眼鏡的鏡片？相機的鏡頭？還是跟台積電有著間接關係的蔡司半導體？不管是那個部門，隨便都是年營收上千萬歐元的事業。這次壹哥前往位在德國符騰堡州（Baden-Württemberg）的上科亨（Oberkochen），做了一次相當難得的蔡司總部直擊與相關訪談，跟大家分享蔡司的過去、現在與未來。

中國哈爾濱工業大學日前在官方新聞網宣布，「放電等離子體極紫外光刻光源」2個項目獲得獲黑龍江省高校和科研院所職工科技創新成果轉化大賽一等獎，顯示被稱為「曝光機心臟」的極紫外（EUV）光源技術有了突破。對此，媒體人唐湘龍分析，中國看似正努力度過美國的科技打壓封鎖，但是今年有可能用彎道的方式，從跟隨者變成走到前面的人。

隨著數位化時代來臨，全球紙張需求逐年下降，傳統紙業面臨嚴峻挑戰。日本紙業龍頭之一的王子控股（OjiHoldings）積極尋求轉型，近年來投入半導體材料領域，運用木材資源開發生質光阻劑（BiomassResist），搶占先進製程市場。該公司計劃在2028年完成商業化，並於2030年達成每年100億日圓的銷售額，成為台積電等全球晶圓代工廠的潛在供應商。

根據全球最大半導體設備商艾司摩爾2024年年報顯示，ASML全年銷售收入達283億歐元，其中系統設備銷售達217.69億歐元，中國採購額即占系統設備銷售收入達41%居冠，台灣僅占11%排名第四，亦即中國在2024年快速躍升為ASML的最大客戶。對此，科技達人曲博在網路節目《論政天下》上指出，儘管本土有供應商，但半導體廠首選仍是跟國外進口，因為任何一家晶圓廠，重點在於良率、賺錢，不會想要花時間去培養本土的供應商、慢慢調品質。

去年秋季，蔡司半導體技術生產股份公司（ZeissSMT）的高管聽到了一些壞消息。中國科技公司華為（HuaweiTechnologies）的獵頭正在試圖挖走該公司的員工。蔡司半導體為功能最強大的半導體生產必需的零部件。

中國半導體技術近日傳出有重大突破，中國工信部月初公布一項通知，內容顯示其國產研發出的氟化氬光刻機，即深紫外光曝光機（DUV），分辨率小於65奈米（nm）、套刻精度小於8奈米，被解讀為可生產8奈米及以下晶片。不過，台大電機博士畢業的科技產業專家「曲博」曲建仲直指，目前中國該款光刻機的製程能力，大該就是落在55奈米到65奈米之間。

中國因為遭到美國晶片管制，製造晶圓的光刻機輸入受限，而北京政府日前宣布中國製光刻機取得重大進展，解析度達到65奈米，帶動中國晶片股本周大漲。對此，分析師楊應超表示，中國成功自產光刻機固然值得他們高興，但重點在於65奈米其實還落後台積電3奈米整整8個世代，這中間的世代差距，中國至少要5到10年才能趕上現在的進度。

中國工業和信息化部（簡稱工信部）近日在官網發布了「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）」通知，曝光多項重點發展的技術裝備，涵蓋一項國產「氟化氬光刻機」（DUV曝光機），其核心技術指標包括晶圓直徑300mm、照明波長248nm、解析度≦65nm、套刻≦8nm，還傳出已可自主生產「8奈米及以下的晶片」。不料，如今就連中國自家媒體也打臉，此款DUV曝光機其實只能生產65奈米或以下晶片！

中國工業和信息化部公布了一份重大技術裝備推廣目錄，其中包括一項國產「氟化氬光刻機」（DUV光刻機）。這台DUV光刻機的核心技術指標包括：晶圓直徑300mm、照明波長248nm、分辨率≦65nm、套刻≦8nm。中國媒體指出，這意味著中國已可自主生產「8奈米及以下的晶片」。

中國工業和信息化部近日在官方網站發布了「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）」的通知。該目錄涵蓋了多項國家重點發展的技術裝備，其中包括了積體電路生產領域的重大突破。工信部強調，這些重大技術裝備對國家綜合實力和安全至關重要，要求地方政府加強相關支持政策的協同。

荷蘭政府上周五表示，將擴展對ASML旗下19070i和1980i深紫外線浸沒式光刻工具的出口限制，使其同去年美國單方面發布的出口限制相一致。

全球半導體設備大廠艾司摩爾所生產的極紫外光曝光機（EUV）被譽為地表最複雜的機器，該公司歷經10年研發，推出最新一代曝光機（HighNAEUV），造價高達3.8億美元（相當新台幣121.3億元）。而HighNAEUV產品管理副總裁史東斯（GreetStorms）是一位敢於向老闆說不的女性主管，她強調，「在艾司摩爾工作最棒的是，公司鼓勵員工勇於思辯，相互挑戰，找出最佳解決方案。」