中國還要多少時間，才能造出EUV曝光機？蔡司集團給答案：15年

荷蘭曝光機設備巨頭艾司摩爾（ASML）的關鍵供應商、德國蔡司集團高管稱，中國在研發尖端曝光機設備方面仍落後約15年。

蔡司半導體部門負責人羅蒙德（Frank Rohmund）接受彭博社訪問時說，中國可能需要15年才能研發出極紫外光（EUV）曝光機，這是一個「合理的估計」，但他補充說，由於相關技術進展難以量化，目前很難準確判斷中國的實際水準。

艾司摩爾是世界上唯一一家能夠商業化生產EUV曝光機的廠商，蔡司是艾司摩爾EUV曝光機所用光學系統的獨家供應商。在美國推動的出口管制下，荷蘭政府限制艾司摩爾向中國市場出口EUV曝光機，也收緊了部分技術要求相對較低的浸潤式DUV曝光機設備的出口。

羅蒙德認為，如果出口管制進一步擴大至較舊的DUV曝光機，將不利於企業經營。他說：「我們不認為這些出口限制會產生積極影響，因為這反而會加速中國的創新。」

中國在生產浸沒式DUV光刻設備方面已取得進展。科技媒體The Information今年7月引述知情人士報導，上海一家企業已開始製造自主研發的浸沒式DUV曝光機，但設備性能及量產可靠性仍有待驗證。

羅蒙德說，中國已投入數十年研發相關技術，因此近期有關技術突破的報導「並不令人意外」。他說：「接下來，我們須觀察這些設備的實際性能究竟如何。」但他強調：「我們仍然遙遙領先。」

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