# 曝光機  

美國政府強力推動半導體重回「美國製造」，除了晶圓廠、先進製程外，曝光機也是產業鏈重點之一。而前英特爾執行長季辛格（Pat Gelsinger）在離職後，於新創公司XLight擔任董事長，開發曝光機新型技術「自由電子雷射」，而美國政府已同意砸下1.5億美元，投資入股此公司。科技媒體《Wccftech》報導指出，在推動台積電赴美投資、扶植英特爾等動作之後，美國商......

台積電在23日重量發表下一世代的先進製程技術「A14」，其製程來到1.4奈米，不過也透露A14將不會使用目前最先進的「高數值孔徑極紫外光」（High-NAEUV）曝光機。而外媒《wccftech》對此報導指出，台積電基於成本取捨放棄採用高NA技術，但英特爾將於明年推出的18A製程反而採用，意味著台積電將在採用最新技術方面落後英特爾至少4年，可能會讓對手取得技術競爭優勢。

艾司摩爾（ASML）是台積電最重要的夥伴，主要因為這家荷蘭公司負責的極紫外光系統，能產出地球上最先進的晶片，一台極紫外光曝光機售價約為3.7億美元，是全球最貴的生產設備之一。

中國為突破美國對其限制出口先進晶片及半導體設備，近年來加強自主研發。路透社報導，華為計劃明年首季大規模生產AI晶片昇騰910C，但在缺乏先進的曝光機下，晶片的良率限制在20%左右。

日經亞洲報導，台積電向ASML訂購的當前最先進半導體製造設備、新一代高數值孔徑極紫外光（HighNAEUV）曝光機，將於今年底前首件交貨，晚幾個月跟上美國對手英特爾的腳步。

「如果沒有AI，現在的市場將會非常慘淡。」全球曝光機之王艾司摩爾（ASML）執行長ChristopheFouquet日前在法說會時如此表示，在這項聲明發布之後，ASML股價大幅下跌16%，隔天股票又下跌了5%。

中國工業和資訊化部（MinistryofIndustryandInformationTechnology）表示，中國國產氟化氬曝光機已經達到65奈米，意味其足以突破 28奈米制程。

中國工業和信息化部（簡稱工信部）近日在官網發布了「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）」通知，曝光多項重點發展的技術裝備，涵蓋一項國產「氟化氬光刻機」（DUV曝光機），其核心技術指標包括晶圓直徑300mm、照明波長248nm、解析度≦65nm、套刻≦8nm，還傳出已可自主生產「8奈米及以下的晶片」。不料，如今就連中國自家媒體也打臉，此款DUV曝光機其實只能生產65奈米或以下晶片！

中國工業和信息化部近日在官方網站發布了「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）」的通知。該目錄涵蓋了多項國家重點發展的技術裝備，其中包括了積體電路生產領域的重大突破。工信部強調，這些重大技術裝備對國家綜合實力和安全至關重要，要求地方政府加強相關支持政策的協同。

荷蘭半導體製造設備龍頭艾司摩爾（ASML）受惠於客戶擴大產能以滿足人工智慧（AI）晶片需求大增，因此明天公布第2季財報時，預料將揭露湧入大量新訂單。

荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾與台積電建立緊密的合作關係，如今在地緣政治壓力下，兩大巨頭處境極為類似。人才是創新的關鍵，由於許多國家追求自給自足一條龍模式，面臨嚴重的人才荒，假設三大主要國家朝向一條龍情況下，人才短缺規模將增為15倍，各國若要自行籌備半導體人才，幾乎是不可能的任務。

荷蘭國寶級公司半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）原本位居幕後且低調，在美中科技戰之下，飽受壓力，未來還能保住全球霸主地位？荷蘭資深記者海英克（MarcHijink）花3年時間深入艾司摩爾無塵室，揭開該公司神秘面紗，他接受《風傳媒》獨家專訪時直言，「美國祭出口管制反而給中國大好機會發展自己的系統，長期而言，艾司摩爾很難保持獨占地位。」

彭博報導，荷蘭半導體生產設備製造商艾司摩爾控股公司（ASML）指出，今年將交付最新型的高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NAEUV）給台積電。

台積電業務開發資深副總經理張曉強14日表示，台積電的A16技術製程節點不一定需要用到艾司摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NAEUV）。

全球光刻機之王荷蘭艾司摩爾（ASML），本周公布的第一季訂單，出乎意外地低於分析師的預期。

路透社引述2名知情人士報導，美國商務部工業暨安全事務次長埃斯特維茲（AlanEstevez）預計於下週一（4月8日）於荷蘭會晤政府官員及阿斯麥（ASML，下稱艾司摩爾）人員討論服務合約。

中國大買半導體設備！全球第一大曝光機廠荷蘭艾司摩爾（ASML）對中國銷售比例，在去年第三季，達到前所未有的的46%，遠高於去年第一季的8%。

美中科技競爭氛圍中，中國晶片企業搶購半導體設備。中國今年9月從荷蘭進口曝光機數量、金額激增；荷蘭半導體設備供應商艾司摩爾（ASML）第3季在中銷售額占其整體比重達46%。

美國政府對中國實施晶片製造設備出口管制措施，其中曝光機設備成為關鍵；專家認為，管制雖然不會立即摧毀中國的晶片製造商，但將「極大地限制」中國製造最先進半導體能力。

荷蘭政府在上周五公布了新規定，半導體公司在向國外出售某些類型的晶片製造設備之前，必須獲得政府的批准，這項措施主要瞄準荷蘭設備大廠ASML的深紫外光設備輸出中國的限制。

荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長韋尼克25日說，美荷政府正在就該公司外銷中國的新限制措施進行談判，但艾司摩爾今年對中國出口可能會與去年維持相同水準。

氣象局今（29）日發布大雨特報，基隆市、新北市及宜蘭縣防大雨。氣象專家吳德榮今天表示，東北季風影響，北台灣濕涼；跨年迎曙光因迎風面北、東部雲多、偶有局部短暫雨，並不理想。