全球晶圓製造龍頭台積電與曝光機大廠艾司摩爾(ASML)今(8)日宣布發起合作,共同引領半導體產業轉移升級至更大尺寸的極紫外光(EUV)微影光罩,High NA EUV將自現行的6吋光罩,轉移至更大的12吋光罩,計劃於2031年前建立試產線,2033年導入先進製程量產。台積電與ASML表示,從6吋光罩轉移至12吋光罩,預期將進一步提升晶圓廠的生產力、降低晶片製......
2奈米晶圓生產目前仍離不開艾司摩爾(ASML)的EUV(極紫外光)曝光機,科技媒體《Wccftech》報導指出,ASML已經出動組建專門團隊,協助三星在美國的德州泰勒新廠,安裝這些關鍵的曝光機,也代表三星德州廠即將正式啟用。報導引述韓媒《Fnnews》消息指出,ASML近期在美國德州發布徵才訊息,尋找「現場服務工程師」(field service engi......