華為、中芯都逃不掉！全中國晶片業都依賴ASML「這款曝光機」　美國擬立法全面封殺

美國對中實施出口管制，其中製造晶片的關鍵設備，極紫外光（EUV）曝光機是重點之一，而中國半導體業準備再面臨新一波衝擊，因為美國兩黨國會議員正聯手推動《MATCH法案》，禁止ASML進一步對中出口性能低一階的深紫外光（DUV）曝光機。

外媒《Wccftech》報導提到，美國限制EUV設備出口中國，儘管促使了北京加速本土晶片供應鏈的建設腳步，但也成功限制中國在先進製程競賽中的發展，讓中國目前在「官方宣稱」上還停留在5奈米的水準。

報導指出，美國參議院外交關係委員會正準備推動《MATCH法案》（MATCH Act），將進一步禁止DUV設備的出口，這項跨黨派法案旨在現代化美國出口管制體系，確保對手無法從美國或其盟友，購買自身無法製造的半導體製造設備技術，也就是「關鍵瓶頸」。

美國參議員Jim Risch表示，「透過促進盟友間出口管制的一致性，並堵住維修服務與特定實體的漏洞，《MATCH法案》將有助於維持美國在與中國AI競賽中的技術領先地位。」

不只華為跟中芯全靠DUV造晶片　中國半導體命脈恐被斬斷

報導分析，對於不了解DUV曝光機對中國重要性的人來說，目前這幾乎是中國當地晶圓廠唯一可行的選擇。例如華為、中芯、華虹及記憶體廠商長鑫（CXMT）與長江存儲（YMTC）等中國晶片巨頭，都完全依賴DUV曝光機進行生產。

​​報導表示，其中，中芯國際利用ASML的DUV曝光機，研發N+1、N+2等7奈米級製程；長鑫與長江則利用DUV擴充記憶體產能，中國晶片廠持續競相擴產，一旦DUV曝光機被禁，這些計畫可能受到重大打擊。

報導指出，《MATCH法案》提議禁止「銷售或維修」DUV浸潤式曝光技術，理由是這些設備被用於推動中國軍事技術現代化，同時建議，將上述中國企業納入類似「實體清單」的限制，阻止其進入國際市場。目前該法案仍在討論階段，尚未正式立法，但顯示出美國國會正在鎖定中國半導體的供應鏈關鍵環節。

報導提到，中國對DUV的依賴程度相當高，雖仍在開發本土自製設備，但其本土技術仍困於28奈米等成熟製程，在7奈米等更先進製程方面，仍高度依賴ASML的技術，也使美國這次的相關立法可能帶來重大衝擊；另一方面，對ASML來說，這也代表其可能失去占公司總營收近20%的DUV銷售市場。曝光機

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