MATCH法案  

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艾司摩爾最新一代曝光機 High NA EUV ( 照片 由ASML 提供)

製造尖端晶片的最後一哩路:中國拿到EUV曝光機了嗎?經濟學人:看起來不像,但美荷半導體防線已浮現裂痕

20260701-台灣經濟研究院產經資料庫總監劉佩真(見圖)1日出席路怡珍主持的風傳媒「下班國際線」節目。(柯承惠攝)

下班國際線》晶片半球化!輝達台積電主導一半,華為主導另一半 專家解析:台灣押哪半邊?

2025年3月3日,美國總統川普與台積電董事長魏哲家、商務部長盧特尼克在白宮羅斯福廳召開記者會。(美聯社)

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美國國會推動《MATCH法案》,禁止ASML進一步對中出口曝光機。示意圖。(資料照,柯承惠攝)

華為、中芯都逃不掉!全中國晶片業都依賴ASML「這款曝光機」 美國擬立法全面封殺