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AI投資正把晶片製造設備的需求能見度推向更遠。艾司摩爾（ASML）執行長Christophe Fouquet今（14）日表示，部分客戶已對提前下訂2029年、甚至2030年的設備表達強烈興趣；但公司原先規劃2027年增加30%、2028年再增加30%的產能，仍無法完全滿足客戶需求，正研究進一步提高2028年及之後的供應能力。「2027年增加30%、2028年......

AI投資熱潮持續推升先進半導體設備需求，全球唯一能生產極紫外光（EUV）微影設備的荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML），傳出部分客戶已開始詢問2029年、甚至2030年的設備訂單，顯示晶片製造商對未來數年的AI投資規模與持續時間仍抱持高度期待。台灣時間今（14）日午後，ASML公布第3季財報，淨利達49.6億歐元，高於倫敦證券交易所集團（LSEG）彙整的市......

美國針對半導體製造設備進行出口管制，限制中國取得高階曝光機，不過除了先進製程使用的極紫外光（EUV）設備外，由美國研究機構CTS、美前出口管制官員撰寫的最新報告指出，中國晶片商仍獲得了高達343台的深紫外光（DUV）曝光機，其中大多是ASML的產品，顯示出口管制依然存在漏洞，呼籲美國與盟友「全面禁止對中國出口浸潤式DUV設備」。港媒《南華早報》指出，總部位於......

荷蘭一直是台灣半導體產業的重要生產設備來源國，特別是台積電在高階製程仰賴的極紫外光（EUV）微影設備，唯一來源就是荷蘭艾司摩爾（ASML），但荷蘭近幾年也直接或間接捲入美中科技戰。在荷蘭專家眼中，美國政府對於中國半導體產業設下的出口管制愈來愈多，這使得北京開始大力推動半導體生產設備國產化，未來不排除會在精密程度較EUV低一些的深紫外光（DUV）微影設備，成為......

在美國半導體出口管制持續收緊的背景下，中國科技巨擘華為（Huawei）持續加速推動「去美化」供應鏈策略。近期業界消息指出，華為不僅是智慧型手機的領頭羊，更變身成為中國半導體設備領域的「總指揮」角色，透過旗下投資部門（如哈勃投資）與產業基金，整合國內晶圓廠與設備製造商，試圖在微影設備（Lithography）這一關鍵技術節點上，建立自主供應鏈。《金融時報》引述......

美國跨黨派國會議員於今年4月初提出「硬體技術多邊協調法案」《MATCH Act》，強化美國與盟國對先進半導體製造設備的出口管制，這項法案一旦生效，全球最大半導體微影設備製造龍頭ASML將首當其衝。ASML若完全服從美國的命令，形同放棄中國市場；或者，該不顧一切拓展中國市場？根據美國國會議員提出的《MATCH Act》，在現行極紫外光曝光機（EUV）對中國禁售......

亞洲半導體股承受賣壓之際，中國記憶體廠長鑫科技掛牌首日卻跳空大漲466％，形成截然不同的市場景象。與此同時，中國自製浸沒式深紫外光微影設備DUV的消息持續發酵，投資人開始懷疑：美國已經封鎖設備、技術與高階晶片，乃至於人形機器人，但中國為何仍能做出自己的產品？前台積電研發處長楊光磊在《下班國際線》表示，中國半導體崛起與台積電未必是直接競爭關係，但長鑫存儲在DR......

中國已開始量產自主研發的浸沒式（Immersion）DUV（Deep Ultraviolet，深紫外）光刻機，今年預計交付約五台設備，首批客戶包括中芯國際（SMIC）、華虹半導體，以及長鑫存儲（CXMT）。這也是中國首次進入浸沒式DUV光刻機的量產階段，被視為北京推動半導體自主供應鏈的重要里程碑。據悉，這項計畫由上海愛生納電子科技集團（Shanghai Ai......

《路透》28日引述知情人士說法，報導中國開始生產自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機的消息。《路透》指出，這項技術對於製造晶片至關重要，也標誌著北京對於降低依賴外國技術的努力邁出關鍵一步。如果美方對於ASML曝光機的管制持續收緊，中國自主研發的曝光機可能成為重要的備選方案。值得注意的是，中國自主研發的DUV曝光機是由鮮為人知的上海公司「愛生納」（Aish......

隨著市場掀起總規模超過7500億美元的AI投資熱潮，利空頻傳迫使投資人開始擔心大型科技公司持續攀升的資本支出難以為繼，拖累全球科技股走勢。台灣、日本、韓國股市今（28）日全面重挫，截至記者發稿前，台股跌逾1900點或4.4%，韓國KOSPI指數暴跌10%，其中最具指標的SK海力士跌逾13%，三星電子跌逾12%。 輝達CDS飆升、中國量產DUV　引爆AI概念......

日前有外媒報導指出，中國已開始量產自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，引發投資人擔憂ASML在中國市場的長期成長，ASML股價27日重挫，帶動半導體股下殺。對此，財經作家狄驤在臉書發文直言，股市疲軟時期，鬼故事總會特別多。狄驤表示，中國生產DUV這類消息過去每隔一段時間就會出現，這次也沒有太大的不同，主力會趁著利空消息出現壓低吸籌，後續相關類股仍會跟著......

AI帶動的半導體投資熱潮持續延燒，全球微影設備龍頭ASML於15日公布2026年第二季財報，不僅營收、毛利率雙雙優於公司原先財測，更釋出對未來數年的擴產計畫。ASML宣布，因AI帶動先進邏輯與記憶體晶片需求持續增長，將於2027年同步擴充Low NA EUV與浸潤式DUV微影設備產能各30%，並評估2028年再進一步增加30%產能，顯示公司看好AI晶片需求將......

AI浪潮帶動半導體需求強勁，晶片產能供不應求，也讓全球曝光機巨頭艾司摩爾（ASML）獲利高漲，不過市場也傳出ASML打算漲價，財務長達森（Roger Dassen）表示，「目前我們正與客戶討論這些議題」。而美媒《The Information》進一步透露，ASML的最大客戶，也就是台積電對漲價表示反對，更不願輕易妥協。報導指出，ASML財務長達森在財報電話會......

美國對中實施出口管制，其中製造晶片的關鍵設備，極紫外光（EUV）曝光機是重點之一，而中國半導體業準備再面臨新一波衝擊，因為美國兩黨國會議員正聯手推動《MATCH法案》，禁止ASML進一步對中出口性能低一階的深紫外光（DUV）曝光機。外媒《Wccftech》報導提到，美國限制EUV設備出口中國，儘管促使了北京加速本土晶片供應鏈的建設腳步，但也成功限制中國在先進......

在美國科技封鎖下，中國半導體發展受限，先進設備難以取得，但中國科技企業卻屢屢傳出技術突破的消息。微驅科技總經理吳金榮在節目《財經相對論》提到，中國中芯半導體的架構非常強大，該公司投入大量資金，產能也很大，而且已經能生產到7奈米製程。不過，中芯沒有EUV設備，而是透過DUV多重曝光方式來製作。然而，目前美國已要求ASML不准輸出高階DUV機台到中國。針對先前傳......

美中貿易戰打得火熱，荷蘭曝光機大廠艾司摩爾（ASML）被美方禁止向中國出售最先進的曝光機，這也導致中國半導體產業很難快速突破當前技術瓶頸。美國著名地緣政治分析師魏切特（Brandon Weichert）日前在社群X發文指出，中國為突破技術限制，自行拆解艾司摩爾的曝光機想進行研究，結果拆完後卻裝不回去，緊急向原廠艾司摩爾求救。​魏切特指出，自2018年起，美......

中國為反制美國關稅、晶片管制，日前宣布擴大稀土出口管制，相關新規定將於12月階段生效，外界擔憂恐對不少產業造成嚴重衝擊。外媒報導指出，稀土在先進半導體製程與製造設備中扮演多項關鍵角色，曝光機巨頭ASML正在為出貨延遲做準備。對此，前立委蔡正元在節目《中天辣晚報》指出，現在ASML也急了，曝光機被卡死，中國稀土大招擊中ASML命門。​​中國此次擴大稀土管制內......

在AI浪潮推動下，半導體需求急速擴張，美中科技角力加劇，供應鏈版圖正被重塑。荷蘭半導體設備巨擘艾司摩爾（ASML） 是這場全球科技競局中最關鍵的玩家。​荷蘭《新鹿特丹報》資深科技記者馬克・海因克（Marc Hijink） 追蹤ASML逾10年，獲准深入無塵室並旁聽高層會議，訪談全球超過300位關鍵人物，紀錄ASML如何從新創躍升為半導體產業核心。他的觀察集結......

中國已有一台DUV（深紫外光）光刻原型機交付上海晶圓廠測試的消息，最近引發媒體關注。這台原型機雖然不是更先進的EUV（極紫外光），更還談不上商用程度，但在美國及其盟友日益收緊的出口管制下，中國確實正在傾全國之力加速半導體設備的國產化進程。一般認為中國即便造得出航空母艦、電動車、無人機，但面對光刻機這道天塹，恐怕北京也只能徒呼負負。不過如同華為在技術封鎖下，依......

中國近年受美國科技制裁影響，光刻設備受進口禁令限制，中國能否自製所需要的高階晶片受到全球關注。對此，科技力智庫執行長烏凌翔在網路節目《烏鴉．笑笑》中指出，中國已有一座較先進的DUV原型機已交付上海晶圓廠測試，該原型機由上海這公司研發製造，目前仍在調試完善中。烏凌翔說明，宇量昇科技有限公司為半導體設備製造商新凱來的子公司，位於華為半導體生態系中，主要研發半導體......

中國半導體設備傳出最新突破，據中媒《快科技》報導，中國科學院近日成功研發突破性的深紫外光曝光機(DUV)，可發射波長193nm的光子，與目前主流波長一致，理論上能將半導體工藝推進至3奈米，並且在技術上與艾司摩爾（ASML）、佳能（Canon）、尼康（Nikon）等國際大廠不同；不過目前輸出功率、頻率都與商用水準有落差，仍需繼續研發。

中國在美國晶片制裁下積極實現半導體製造自主，而在生產過程最為重要的光刻機發展上，近期傳出有所突破。媒體人烏凌翔在節目《烏鴉笑笑》中提到，中國有一座比較先進的自製光刻機近來已交付中芯（SMIC），推測應是由深圳新凱來所製造出的原型機，不過距離實際的應用，仍有一大段的距離需要克服。

中國半導體技術近日傳出有重大突破，中國工信部月初公布一項通知，內容顯示其國產研發出的氟化氬光刻機，即深紫外光曝光機（DUV），分辨率小於65奈米（nm）、套刻精度小於8奈米，被解讀為可生產8奈米及以下晶片。不過，台大電機博士畢業的科技產業專家「曲博」曲建仲直指，目前中國該款光刻機的製程能力，大該就是落在55奈米到65奈米之間。

中國工業和信息化部公布了一份重大技術裝備推廣目錄，其中包括一項國產「氟化氬光刻機」（DUV光刻機）。這台DUV光刻機的核心技術指標包括：晶圓直徑300mm、照明波長248nm、分辨率≦65nm、套刻≦8nm。中國媒體指出，這意味著中國已可自主生產「8奈米及以下的晶片」。

中國工業和信息化部近日在官方網站發布了「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）」的通知。該目錄涵蓋了多項國家重點發展的技術裝備，其中包括了積體電路生產領域的重大突破。工信部強調，這些重大技術裝備對國家綜合實力和安全至關重要，要求地方政府加強相關支持政策的協同。

荷蘭首相史庫夫（DickSchoof）8月30日表示，荷蘭政府在決定進一步收緊晶片製造設備對華出口限制時會考慮ASML的經濟利益。

中國通訊科技巨頭華為號稱要超越在中國市佔率90%的輝達A100，卻因為美國制裁因素，再加上中芯國際代工的良率極低、設備頻繁故障，導致華為的第二代AI晶片「昇騰910B」難以擴充產能。

路透社引述2名知情人士報導，美國商務部工業暨安全事務次長埃斯特維茲（AlanEstevez）預計於下週一（4月8日）於荷蘭會晤政府官員及阿斯麥（ASML，下稱艾司摩爾）人員討論服務合約。

香港英文報紙《南華早報》1日引述知情人士說法，報導了北方華創科技集團（NauraTechnologyGroup）正在研發光刻系統的消息，華為也申請了「自對準圖案四重化」（SAQP）的專利。雖然目前還不知道何時會有成果，但《南華早報》說，中國廠商正在嘗試各種變通方法，希望能在沒有艾司摩爾（ASML）光刻機支援的情況下自力生產五奈米晶片，突破美國對中國晶片製造能力的打壓。

拜登政府本周擴大了針對中國晶片行業的限制措施，旨在阻止北京獲得美國尖端技術來加強其軍事力量。過去一段時間，中國半導體設備領域發展迅速，但本土廠商仍缺乏提供EUV等全套設備的能力。

華為推出的新手機用上了中國最大的晶片製造商中芯國際自研的一款7奈米晶片，令西方吃了一驚。美國有可能採取進一步制裁，不過專家認為這不能阻止華為等中國公司參與科技競爭。

華為新推的5G旗艦智慧機Mate60Pro內建先進處理器「麒麟9000s」，暗示中國突破華盛頓的科技管制壁壘，引起全球矚目。然而，美國知名財經網站霸榮（Barron`s）資深科技專欄作家TaeKim認為，中國的晶片問題正在惡化、而不是在改善中。

荷蘭政府在上周五公布了新規定，半導體公司在向國外出售某些類型的晶片製造設備之前，必須獲得政府的批准，這項措施主要瞄準荷蘭設備大廠ASML的深紫外光設備輸出中國的限制。

路透社報導，為限縮中國的晶片產業發展，美國和荷蘭將再次聯手，要求企業出口高階晶片設備到中國應申請許可證。兩國將分別採取哪些措施？對於近期多項出口管制，業界人士怎麼看？

荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）3日發布新聞稿，已與中芯國際延長銷售半導體製造設備的協議。由於美國人工智慧國家安全委員會（NSCAI）才剛建議美國與荷蘭及日本進行協調，停止向中國銷售晶片製造設備的出口證照，該協議等於打NSCAI一耳光。外界猜測，這可能代表美國總統拜登聯合日本、韓國、歐盟圍堵中國失敗。