美國跨黨派國會議員於今年4月初提出「硬體技術多邊協調法案」《MATCH Act》，強化美國與盟國對先進半導體製造設備的出口管制，這項法案一旦生效，全球最大半導體微影設備製造龍頭ASML將首當其衝。ASML若完全服從美國的命令，形同放棄中國市場；或者，該不顧一切拓展中國市場？
根據美國國會議員提出的《MATCH Act》，在現行極紫外光曝光機（EUV）對中國禁售的基礎上，要求荷、日等企業將深紫外光曝光機（DUV）也納入禁售中國的範圍，並禁止對已售出的DUV機器提供維修等售後服務。由於中國是ASML最大單一市場，2025年中國市場占ASML營收的33%，美國這項法案一旦生效，對ASML的衝擊非常大。
Gregory Allen：若無高科技出口管制，中國AI模型早就超越美國
中國積極發展半導體計畫，不僅要建立完整的半導體產業鏈，達到自給自足，同時積極發展AI產業，為全球人工智慧的霸主。美國獨立研究機構Decision Tree Research創辦人暨執行長Gregory Allen在Semicon Taiwan國際論壇中指出，「美、中的AI競賽比冷戰時期太空競賽更加嚴峻，AI已成為地緣政治的巨大力量。美國在高科技出口管制執行上相當混亂，然而，如果沒有這些管制，全球第一個大型資料中心會出現在中國，而中國最先進的AI模型早就超越美國。」
美國透過《MATCH Act》，對中國的科技出口管制再升級，這項出口管制對荷蘭ASML的出口業務造成巨大衝擊，荷蘭政府已向美國表達不滿。川普政府執行晶片出口管制前後矛盾，例如川普同意輝達（NVIDIA）出口先進的H200 AI晶片到中國，這項晶片必須以極紫外光曝光機（EUV）製造，卻禁止荷蘭ASML出口最先進的EUV到中國，如此標準不一的作法，引發爭議。
中國若發展出本土EUV，ASML將失去中國市場
針對荷蘭政府與ASML的反彈，Gregory Allen回答筆者提問時表示，「川普政府在高科技出口管制政策執行上出現矛盾。不過，如果沒有這些管制，ASML大幅增加對中國的出口，中國市場占比可能由20%大幅提升至60%，形同自掘墳墓。中國已宣示要積極發展本土半導體產業鏈，如果以10年為一個階段，10年內中國可能研發出本土EUV，屆時ASML將失去中國市場。兩相比較，現在失去20%的市場，或是10年後失去60%的市場？」
中國可能研發出本土EUV？荷蘭《新鹿特丹報》記者、暢銷書《造光者》作者海英克（Marc Hijink）應DSET邀請，9月3日在「從晶片到實體AI」論壇中指出「中國傾全力要發展本土EUV，推估至少要花10年以上時間。如今美國擬透過《MATCH Act》提升對中國出口管制，並限制ASML人員赴中國從事維修服務，如此一來，對ASML產生很大威脅，並且為中國本土公司提供巨大商機。」 （相關報導： 觀點投書：中國向光刻機急起直追 ｜ 更多文章 ）
海英克一直認為，「美、中科技戰之下，美國對中國的出口管制，最後將適得其反。長期而言，ASML很難維持半導體微影設備的壟斷地位。」
