AI投資熱潮持續推升先進半導體設備需求，全球唯一能生產極紫外光（EUV）微影設備的荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML），傳出部分客戶已開始詢問2029年、甚至2030年的設備訂單，顯示晶片製造商對未來數年的AI投資規模與持續時間仍抱持高度期待。
台灣時間今（14）日午後，ASML公布第3季財報，淨利達49.6億歐元，高於倫敦證券交易所集團（LSEG）彙整的市場預估41億歐元，但營收僅為116.6億歐元，略低於市場預期的117.2億歐元。
公司同時表示，未來2年設備供應量無法完全滿足客戶需求，進而引發市場對AI發展的擔憂，ASML在Tradegate交易所的股價下挫，拖累美股期貨以及日本、韓國股市連袂走低，台股尾盤殺聲隆隆。
ASML執行長傅凱（Christophe Fouquet）在財報聲明中表示，客戶持續上調與公司討論的短期及中期設備需求預測，主要受到客戶對AI相關投資規模及持續時間的判斷所帶動。由於對未來需求的能見度提高，部分客戶已表達希望預訂2029年、甚至2030年設備的意願。
AI需求超越供給規劃 ASML評估擴大產能
ASML的微影設備是先進晶片製造的重要工具，其中EUV設備更是台積電等業者生產最先進半導體的關鍵。由於全球只有ASML能製造EUV設備，這家荷蘭公司的財報與訂單展望，向來是投資人觀察AI晶片需求及半導體資本支出的重要指標。
傅凱指出，ASML目前規劃的2027年及2028年設備供給，仍無法完全滿足客戶需求。公司正評估如何進一步提高2028年的產能，超越先前預估的30%增幅。
不過，客戶對遠期設備的詢單意願、實際下單時程及最終資本支出規模仍有差異，後續仍須觀察需求預測能否轉化為實際訂單。
第3季期間，全球兩大晶片製造商台積電與三星電子也承諾採用ASML新一代高數值孔徑（High NA）極紫外光微影設備。High NA EUV被分析師視為ASML未來成長的重要動能，隨著晶片製程持續推進，這項新一代設備的導入進展也受到市場密切關注。
ASML今年7月上調全年營收及毛利率預測，反映公司持續觀察到強勁的設備需求。受此帶動，ASML股價今年以來已上漲56%。
展望全年，ASML將2026年營收預測區間落在440億至450億歐元；預估第4季營收將達142億至152億歐元，上限高於LSEG彙整的市場預估142億歐元。
中國營收占比維持20% DUV設備競爭仍受關注
在中國市場方面，ASML維持先前預測，預期中國業務將占公司整體營收的20%。近年中國積極推動半導體供應鏈自主化，也讓外界持續關注中國本土設備技術能否逐步縮小與歐美業者的差距。
《The Information》7月引述知情人士報導，一家未具名的中國企業已開始製造浸潤式深紫外光（DUV）微影設備。ASML除了在EUV設備領域具有獨占地位，也在技術相對成熟的DUV設備市場占據主導地位。
儘管中國持續加大半導體設備自主研發力道，分析師仍然懷疑中國能否大規模提升自製DUV設備的技術能力與產量。此外，ASML受到出口管制限制，無法向中國銷售EUV設備及部分DUV設備，中國市場的業務發展仍面臨限制。
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