美中科技惡戰,聚焦光刻機!中國實現國產DUV,美國繼續收緊ASML出口

2024-09-15 11:04

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中國政府致力於扶持本土半導體產業,追求晶片自有化。(圖/翻攝自微博)

中國政府致力於扶持本土半導體產業,追求晶片自有化。(圖/翻攝自微博)

中國工業和信息化部公布了一份重大技術裝備推廣目錄其中包括一項國產「氟化氬光刻機」DUV光刻。這台DUV光刻機的核心技術指標包括晶圓直徑300mm、照明波長248nm、分辨率≦65nm、套刻≦8nm。中國媒體指出這意味著中國已可自主生產「8奈米及以下的晶片」。

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過去中國一直依賴荷蘭艾斯摩爾(ASML)公司的光刻機設備。但受到美國的出口管制限制,ASML無法向中國出口其最先進的極紫外光(EUV)光刻機。這次中國自主研發的DUV光刻機,填補了這一空白,中國工信部表示,重大技術裝備是國之重器,事關綜合國力和國家安全,這台DUV光刻機是國內實現重大技術突破、擁有自主知識產權的裝備產品。

儘管中國在DUV光刻機領域取得突破但美國和荷蘭仍在進一步收緊對光刻機設備出口的管制。2023年9月美國開始限制ASML公司向中國出口1970i和1980i型號的DUV光刻機理由是這些設備包含美國零件。

為了協調美國和荷蘭的出口政策,荷蘭政府於2024年9月6日宣布,將對ASML的1970i和1980i型DUV光刻機實施出口許可管制。這意味著,ASML需要獲得荷蘭政府的許可,才能向中國出口或提供維修服務。

荷蘭貿易部長克萊弗表示,這一決定是為了確保國家安全。她說,由於技術發展,這些特定生產機器存在更多安全風險,因此需要加強出口管制。中國商務部對此表示「強烈不滿」。中國指責美國為了維護其「全球霸權」不斷向盟友施壓要求其收緊對中國的半導體和相關設備出口管制。中國呼籲荷蘭政府不要濫用出口管制避免損害中荷半導體合作的共同利益。

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