宇量昇  

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科技力智庫執行長烏凌翔表示,上海公司宇量昇可能不單只是要繞過ASML的專利障礙,而是開闢新的技術路徑,研究出性能更好的曝光機。圖為ASML光刻機模型。(資料照,顏麟宇攝)

中國曝光機大躍進?傳成功生產7奈米 專家曝「開闢全新技術」可期:超越ASML

美國過去透過制裁限制中國取得先進製程設備,有分析認為效果正逐漸減弱,報導指出,中國光刻機的進展「可能讓美國提前5年面臨挑戰」。(百度百科)

中國光刻機首測結果曝光!陸股狂飆暗示1危機…台積電王座還穩嗎?

中國已有一座較先進的DUV(深紫外光光刻技術)原型機交付上海晶圓廠測試。示意圖。(取自pexels)

中國搞定光刻機,ASML緊張了?專家曝這大廠研製:華為生態系的主攻手