謝錦芳專欄:艾司摩爾敢向老闆說不的女性主管

2024-09-08 06:50

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艾司摩爾High NA EUV 產品管理副總裁 Greet Storms (謝錦芳攝)

艾司摩爾High NA EUV 產品管理副總裁 Greet Storms (謝錦芳攝)

全球半導體設備大廠艾司摩爾所生產的極紫外光曝光機(EUV)被譽為地表最複雜的機器,該公司歷經10年研發,推出最新一代曝光機(High NA EUV),造價高達3.8億美元(相當新台幣121.3億元)。而High NA EUV產品管理副總裁史東斯(Greet Storms)是一位敢於向老闆說不的女性主管,她強調,「在艾司摩爾工作最棒的是,公司鼓勵員工勇於思辯,相互挑戰,找出最佳解決方案。」

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半導體國際論壇(SEMICON Taiwan)舉行期間,史東斯來台分享艾司摩爾新一代高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影技術。有半導體業者質疑High NA EUV的價格太貴,史東斯接受《風傳媒》專訪時直言,「如果你只看High NA EUV的價格,的確比一般EUV來得高,但是如果從每片晶圓的成本來計算,High NA EUV實際上比一般EUV便宜30%,因為一般EUV需要較多曝光與程序,這些都是成本,而新一代EUV簡化了這些步驟與程序,同時可提升良率,因此,整體來看,新一代曝光機(High NA EUV)為半導體廠降低了成本。」

艾司摩爾女性員工占20% 董事會44%為女性

在以男性為主的高科技產業中,Greet Storms是少數的女性主管。艾司摩爾全球4.24萬名員工中,女性占20%,董事會成員有44%為女性,而高階女性主管占15%,其中,史東斯負責的是重中之重,新一代曝光機High NA EUV產品管理。她形容自己的工作是扮演客戶與研發團隊之間的橋樑,把客戶的意見與回饋帶回給研發團隊,讓他們了解客戶的需求。

外型亮麗、說話簡潔的Greet Storms,原為電機工程師,曾服務於比利時知名的微電子研究中心(imec),2008年轉任艾司摩爾,從專案負責人一路晉升為產品管理副總裁。她提到,早期在imec服務時,主要從事研究,非常感謝當時導師的協助,讓她打下紮實的基礎。後來轉到艾司摩爾,她必須與客戶接觸,那是完全不同的工作,跳出舒適圈之後,接受許多新挑戰,有時候難免遭遇挫折,但是不服輸的性格,讓她總是打起精神繼續前進,使命必達,也因此持續被付予重任。

艾司摩爾最新一代曝光機 High NA EUV ( 照片 由ASML 提供)
艾司摩爾最新一代曝光機 High NA EUV ( 照片 由ASML 提供)

High NA EUV減少工序 降低導入風險與研發成本

艾司摩爾生產極紫外光(EUV)曝光機,被譽為地表最複雜的機器。新一代曝光機High NA EUV總重量高達150噸,究竟有多神奇?史東斯表示,「High NA EUV提供更高的成像解析度,成像臨界尺寸達到8奈米,創下世界紀錄,讓晶片製造商可以在同樣單位面積晶片上實現比現在高出2.9倍的電晶體密度。透過新一代曝光機,客戶可減少製造工序,降低製程缺陷、成本和生產周期,也因此降低導入風險和研發成本。」

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