全球半導體設備大廠艾司摩爾所生產的極紫外光曝光機（EUV）被譽為地表最複雜的機器，該公司歷經10年研發，推出最新一代曝光機（High NA EUV），造價高達3.8億美元（相當新台幣121.3億元）。而High NA EUV產品管理副總裁史東斯（Greet Storms）是一位敢於向老闆說不的女性主管，她強調，「在艾司摩爾工作最棒的是，公司鼓勵員工勇於思辯，相互挑戰，找出最佳解決方案。」
半導體國際論壇（SEMICON Taiwan）舉行期間，史東斯來台分享艾司摩爾新一代高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影技術。有半導體業者質疑High NA EUV的價格太貴，史東斯接受《風傳媒》專訪時直言，「如果你只看High NA EUV的價格，的確比一般EUV來得高，但是如果從每片晶圓的成本來計算，High NA EUV實際上比一般EUV便宜30%，因為一般EUV需要較多曝光與程序，這些都是成本，而新一代EUV簡化了這些步驟與程序，同時可提升良率，因此，整體來看，新一代曝光機(High NA EUV)為半導體廠降低了成本。」
艾司摩爾女性員工占20% 董事會44%為女性
在以男性為主的高科技產業中，Greet Storms是少數的女性主管。艾司摩爾全球4.24萬名員工中，女性占20%，董事會成員有44%為女性，而高階女性主管占15%，其中，史東斯負責的是重中之重，新一代曝光機High NA EUV產品管理。她形容自己的工作是扮演客戶與研發團隊之間的橋樑，把客戶的意見與回饋帶回給研發團隊，讓他們了解客戶的需求。
外型亮麗、說話簡潔的Greet Storms，原為電機工程師，曾服務於比利時知名的微電子研究中心（imec），2008年轉任艾司摩爾，從專案負責人一路晉升為產品管理副總裁。她提到，早期在imec服務時，主要從事研究，非常感謝當時導師的協助，讓她打下紮實的基礎。後來轉到艾司摩爾，她必須與客戶接觸，那是完全不同的工作，跳出舒適圈之後，接受許多新挑戰，有時候難免遭遇挫折，但是不服輸的性格，讓她總是打起精神繼續前進，使命必達，也因此持續被付予重任。
High NA EUV減少工序 降低導入風險與研發成本
艾司摩爾生產極紫外光（EUV）曝光機，被譽為地表最複雜的機器。新一代曝光機High NA EUV總重量高達150噸，究竟有多神奇？史東斯表示，「High NA EUV提供更高的成像解析度，成像臨界尺寸達到8奈米，創下世界紀錄，讓晶片製造商可以在同樣單位面積晶片上實現比現在高出2.9倍的電晶體密度。透過新一代曝光機，客戶可減少製造工序，降低製程缺陷、成本和生產周期，也因此降低導入風險和研發成本。」 （相關報導： 陳華昇觀點：國際強化經濟安全趨勢下的印度產業經濟發展契機 ｜ 更多文章 ）
新一代曝光機光罩平台模組加速度高達32G，史東斯形容，這相當於戰鬥機加速率的5倍。在光源方面，CO2雷射以每秒5萬次的速度擊中約1/3人類頭髮寬的錫滴，以產生極紫外光（EUV）。而錫電漿要加熱到攝氏22萬度，相當於太陽表面溫度的40倍。
