# Greet Storms  

High NA EUV（高數值孔徑極紫外光微影）把數值孔徑從0.33提高至0.55，帶來更高解析度及成像對比，卻也同時縮小景深與曝光視場，衍生對焦裕度不足、晶片圖形必須拼接兩大難題。ASML（NASDAQ：ASML；Euronext Amsterdam：ASML）High NA EUV產品管理資深副總裁Greet Storms於SEMICON Taiwan ......

High NA EUV（高數值孔徑極紫外光微影）正式跨越研發驗證，邁向高量產製造。ASML（NASDAQ：ASML；Euronext Amsterdam：ASML）High NA EUV產品管理資深副總裁Greet Storms於SEMICON Taiwan 2026指出，EXE:5200B已在AB模式下達到每小時135片晶圓的驗收產能，全球EXE系統累計曝......

全球半導體設備大廠艾司摩爾所生產的極紫外光曝光機（EUV）被譽為地表最複雜的機器，該公司歷經10年研發，推出最新一代曝光機（HighNAEUV），造價高達3.8億美元（相當新台幣121.3億元）。而HighNAEUV產品管理副總裁史東斯（GreetStorms）是一位敢於向老闆說不的女性主管，她強調，「在艾司摩爾工作最棒的是，公司鼓勵員工勇於思辯，相互挑戰，找出最佳解決方案。」