算力擴張引爆水資源挑戰 藝康推全週期水方案為AI半導體鏈護航

全球水務處理領導者藝康集團（Ecolab）於國際半導體展（SEMICON Taiwan 2026）首度在台發表收購Ovivo電子超純水業務，並展出完整半導體水管理解決方案。面對AI晶片需求攀升帶動產能高速擴張，晶圓製造迎來更高標準的用水挑戰，藝康以「多一片AI晶片，省一分用水」（“More AI Chips. Less Water.”）為核心主軸，推出全週期、一體化方案，協助半導體製造業者在產能高速擴張的同時大幅降低對外部新水依賴，提升晶圓品質、優化營運與推進水循環利用。

隨著全球AI算力需求爆發，先進晶片製程需加速擴產，穩定水質、提高水回收率及降低營運風險，單是一座先進晶圓廠每年的用水量，就相當於1,700萬人一整年的飲水需求，各大晶圓廠在永續經營與維持競爭力面臨巨大考驗。

藝康台灣總經理塗溥仁表示：「AI的發展不只仰賴算力與電力，水資源更是整條AI供應鏈的核心。尤其電子超純水（Ultra-Pure Water, UPW）直接決定了先進晶片製程的品質、良率與能耗。藝康的頂尖超純水系統在全球已安裝超過280套，每小時超純水產能超過51,000立方公尺，相當於半座都會區一日的自來水使用量。此外，藝康亦具備全球數位監控及化學處理能力，目前已安裝逾170套回收水與廢水處理系統。結合Ovivo 的超純水技術與藝康既有的水處理專業，未來可提供晶圓廠一體化的半導體水管理解決方案，賦能晶圓廠以更少的水，生產更多的AI晶片。」

今年SEMICON Taiwan現場，藝康聚焦「精準水管理、回收再利用、全廠區整合」三大亮點。在「精準水管理」方面，晶圓廠透過Ovivo旗艦設備NanoPULS™量測超純水中的奈米微粒，再搭配UPW-Next™無金屬水泵，可從源頭確保超純水極致純度與穩定供應；在「回收再利用」上，廠區導入製程廢水分流、處理與回收方案，可大幅提高廠內水資源循環效率；在「全廠區整合」層面，藝康打破過去單一系統的限制，結合3D TRASAR™即時監測、雲端管理平台與自動化技術，串聯全廠水質與能耗數據，落實精準投藥、異常預警與深度分析，將水管理從被動維護提升為主動優化，協助企業將水管理能力轉化為ESG永續競爭力。 （相關報導： 煙波響應國旅補助推三重優惠！花蓮Long Stay 9/6起再享住宿加碼 ｜ 更多文章 ）

透過整合Ovivo領先的超純水工程技術與藝康既有的化學解方、智慧數位監控能量，藝康打造貫穿超純水、製程水到廢水回收的全週期、一體化循環解決方案，在守護極致良率的同時大幅提升晶圓廠水循環效率與能耗表現。未來藝康將持續扮演半導體產業水管理戰略夥伴，為台灣與全球供應鏈注入永續成長動能。