矽光子檢測專利戰升溫，1310、1550奈米成爭點！汎銓：IR CCD量測屬專利範圍　光焱主張技術路線不同

AI伺服器、資料中心與高速光互連需求升溫之際，矽光子檢測專利戰也浮上檯面。汎銓 （6830）與光焱（7728）近日就矽光子晶片漏光量測技術正面交鋒，雙方爭論點落在1310奈米、1550奈米等常用紅外線波段，若以IR CCD進行量測，是否落入既有專利保護範圍。汎銓主張，其「光損偵測裝置」已實際應用於矽光子元件光損量測與定位分析；光焱則強調，自家核心技術為高光譜成像技術感測模組，與汎銓所稱方案並不相同。

汎銓董事長柳紀綸今 （26）日指出，矽光子主要使用的就是1310奈米與1550奈米紅外線波段，因此若要偵測漏光，必須使用可感測相應波長的IR detector，也就是IR CCD；就汎銓立場而言，以IR CCD裝置量測矽光子，即屬其專利範圍的一部分。

光焱則把攻防焦點放在技術路線差異，主張汎銓所稱專利屬以傳統金相顯微鏡組成的光損量測方案，光焱則是以可整合於探針台、電測機的高光譜成像感測模組為核心，且光損檢測只是其多功能模組中的一項應用。

在技術攻防之外，案件也已進入司法程序。汎銓今日再發聲明表示，公司已於3月25日上午向智慧財產及商業法院提起民事訴訟，主張光焱侵害其中華民國第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並請求停止相關侵權行為及新台幣2億元損害賠償。汎銓指出，該技術已取得台灣、日本與美國發明專利，且應用於矽光子元件光損量測與定位分析。

光焱則表示，截至聲明發布時，尚未收到法院送達的相關訴訟文件，但已著手與律師研擬因應策略，待收到正式文件後將依法答辯。

光焱重申，公司深耕光學與光電子晶片檢測領域已16年，所有核心產品均為團隊自主研發，營運、業務及設備出貨皆正常進行。雙方目前對技術實施手段、專利權利範圍與是否構成侵權各執一詞，後續仍待智慧財產及商業法院進一步審理認定。

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