《南華早報》獨家：中國企圖擺脫DUV光刻機限制，自力做出五奈米晶片

美國積體電路研究公司TechInsights副董事長哈奇森（Dan Hutcheson）表示，中國的SAQP技術很可能涉及北方華創和上海微電子，因為光刻技術需要蝕刻和沈積方面的專業知識。他認為這項專利技術運用蝕刻和沉積步驟取代了光學光刻的原有做法，可望幫助中國實現自製5奈米晶片的目標。新凱來是在去年12月獲得中國國家知識產權局授予相關專利，這種技術正是使用DUV光刻機和SAQP技術實現5奈米限制的生產方法。花旗集團分析師也在一份備忘錄裡指出，北方華創跟中微半導體設備公司（Advanced Micro-Fabrication Equipment）都在研究一種新的多重圖案技術，希望利用蝕刻就能做出7奈米甚至更先進的晶片。

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不過《南華早報》也說，就算中國突破限制、自力做出7奈米甚至5奈米的晶片，這仍然意味著中國的晶片製造技術處理落後階段。因為台積電去年就幫蘋果生產了3奈米晶片，甚至計劃利用ASML的最新EUV光刻機將製程推進到2奈米。雖然中國還在苦苦追趕，但根據北方華創的公開資料，該公司在2023年底已經申請了7900多項專利，並且拿到其中4600多項的專利權。《南早》在報導最後表示，中國的優勢就是政府有能力調動整個國家的半導體供應鏈，在這種情況下，很少人願意與中國對賭。