# High-NA EUV  

全球半導體設備大廠艾司摩爾所生產的極紫外光曝光機（EUV）被譽為地表最複雜的機器，該公司歷經10年研發，推出最新一代曝光機（HighNAEUV），造價高達3.8億美元（相當新台幣121.3億元）。而HighNAEUV產品管理副總裁史東斯（GreetStorms）是一位敢於向老闆說不的女性主管，她強調，「在艾司摩爾工作最棒的是，公司鼓勵員工勇於思辯，相互挑戰，找出最佳解決方案。」

荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）計畫於2030年推出針對1奈米以下製程的Hyper-NA極紫外光機（EUV），然而有韓媒認為，雖然這是半導體產業邁入埃米（angstrom）時代的必要設備，要價多達7.24億美元（折合約237億台幣）以上的高昂生產成本恐怕會讓台積電、三星、英特爾都望而卻步。

彭博報導，荷蘭半導體生產設備製造商艾司摩爾控股公司（ASML）指出，今年將交付最新型的高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NAEUV）給台積電。