# High-NA EUV  

AI晶片尺寸持續擴大，單一缺陷造成的損失也隨之上升。KLA（NASDAQ：KLAC）半導體產品與客戶事業總裁Ahmad Khan 2日在SEMICON Taiwan 2026大師論壇指出，當AI晶片逼近全光罩尺寸，晶圓可切割的晶粒數大幅減少；若一片晶圓僅能切出5顆大型晶片，其中一顆出現致命缺陷，良率便可能減少兩成。Khan強調，這是用來說明晶片尺寸與缺陷成本......

台積電4日召開股東常會，董事長暨總裁魏哲家表示，台積電過去1年成果豐碩，營收和每股盈餘都創下歷史新高，股價成長超過1.5倍。有股東關切資本支出與股價表現，魏哲家表示，整個公司與同仁的努力，會讓成長趨勢持續下去，並向股東信心喊話：「你如果預計買股票，請繼續！」魏哲家指出，台積電股價從去年股東會6月3日當天的每股950元，來到昨天6月3日的2425元，365天成......

台積電（2330）今（4）日召開股東會，資本支出與AI需求能見度成為股東關注焦點。面對股東追問這波資本投入週期還會持續多久、資本支出高原期會落在何時，董事長暨總裁魏哲家坦言，「我的老實回答，我也不知道」，但他隨即強調，從客戶與客戶的客戶所給予的需求預測來看，台積電對未來幾年成長仍有相當信心，「但是下面幾年都很好。」魏哲家指出，台積電今年資本支出原先預估落在5......

台積電加速推進2奈米製程與CoWoS等先進封裝擴產下，從廠務工程到前段與後段製程設備需求同步升溫。全球半導體投資周期延續，台灣設備供應鏈也逐步切入關鍵製程環節，迎來顯著成長契機！文／吳旻蓁AI 浪潮還能燒多久？為什麼全球半導體設備支出能突破 1500 億美元？近年，AI算力對先進製程以及先進封裝的飢渴需求，促使科技大廠增加資本支出腳步不見緩，並讓全球半導體產......

在先進製程競賽白熱化的時刻，台積電向智慧財產及商業法院遞出訴狀，正式指控前資深副總羅唯仁違反「保密義務」及「競業禁止條款」，直指他離職隨即轉任英特爾執行副總裁，使關鍵技術恐落入競爭對手手中，這起案件迅速成為全球科技業焦點，一來因羅唯仁橫跨兩大晶圓巨頭的特殊經歷，二來是在2奈米與18A賽局緊繃之際爆發，敏感度非比尋常，產業人士直言，這已不只是法律問題，而是兩間......

台積電2奈米即將量產，並同時往1.4奈米製程研發邁進，不過在「埃米時代」中，台積電不打算使用艾司摩爾（ASML）最先進的「高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）」曝光機，引起產業關注。對此，科技媒體《Wccftech》指出，台積電使用「另一項技術」，來替代一台單價4億美元的最新曝光機，無疑更具成本效益，不過也有缺點需要克服。報導表示，台積電隨著進一步邁......

「如果我們無法確保重要外部客戶，並實現14A的客戶里程碑，那麼繼續開發與製造英特爾14A與後續節點將不再具經濟可行性。」美國晶片大廠英特爾（Intel）24日在向美國證交會提交的10-Q財報中首度明言，若無法取得具體外部大客戶的承諾，旗下14A（1.4奈米）與後續技術節點的開發可能全面中止，這代表美國在尖端晶片製造領域的主導地位將面臨嚴重威脅。 如果14A取......

台積電1.4奈米製程的技術A14將在未來推出，外界也關注是否會採用艾司摩爾（ASML）最新的高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV）。不過根據外媒《路透社》報導，台積電業務開發資深副總裁張曉強對此直言，台積電仍然找不到「非用不可」的理由去採用High-NA曝光機，對此還在評估當中。High NA EUV價格近4億美元，是晶圓廠中最昂貴的生產工具，晶......