# EUV光刻機  

根據外媒《Investing.com》報導，美國銀行最新報告指出，荷蘭晶片設備大廠艾司摩爾（ASML）正進入多年的上升周期，受惠於光刻技術使用強度提升、獲利加速成長，以及自由現金流大幅改善，因此被納入其「2026年半導體選股首選」名單，同時將目標價自先前的986歐元上調至1158歐元，並維持「買進」評等。分析師預期，隨著艾司摩爾在客戶支出中的佔比擴大，以及更......

曾執掌藍色巨人英特爾（Intel）、並且身為半導體製造回歸美國最重要的倡議者——派特・季辛格（Pat Gelsinger），日前在台北接受《日經亞洲》專訪。如今這位矽谷老兵不再是為了爭取《晶片法案》補貼，大聲疾呼「台灣不安全」的CEO，而是以創投公司Playground Global合夥人的身份，帶著旗下七家深科技（Deep Tech）新創公司的執行長在台北......

美中科技戰從2018年由川普政府吹響集結號後，美國以一系列出口禁令，意圖鎖死中國發展先進半導體的任何可能性。然而這場圍堵戰不僅未能扼殺中國的野心，反而在壓力下催生出一套獨特的「繞行」戰術。當世界還在驚嘆中國AI軟體公司「深度求索」（DeepSeek）如何用更少算力訓練出頂尖模型時，中國的硬體製造商也在上演一場更為艱鉅的正面突圍戰。《經濟學人》22日指出，中方......

台積電2奈米即將量產，並同時往1.4奈米製程研發邁進，不過在「埃米時代」中，台積電不打算使用艾司摩爾（ASML）最先進的「高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）」曝光機，引起產業關注。對此，科技媒體《Wccftech》指出，台積電使用「另一項技術」，來替代一台單價4億美元的最新曝光機，無疑更具成本效益，不過也有缺點需要克服。報導表示，台積電隨著進一步邁......

台積電將於2025年底啟動2奈米製程量產，同時也持續往更先進的1.4奈米邁進，根據科技媒體《Wccftech》報導，台積電將在台灣本地展開1.4奈米生產線的初步建設，但值得注意的是，其不打算採用艾司摩爾（ASML）最新的高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）曝光機，讓台積電在研發A14時，必須不斷採行試錯法來改進製程。報導指出，台積電計畫於今年底在台中......

ASML是全球半導體設備產業的領導者，也是全球最大的晶片微影設備供應商。對此，追蹤ASML發展超過10年的荷蘭科技記者兼專欄作家馬克．海因克（Marc Hijink）接受《風傳媒》節目《下班國際線》專訪時表示，台積電的巨大成功正是建立在和ASML擁有一樣的特質上，它們扮演中立的角色，是半導體業的瑞士，這是這些公司的共同特質。海因克提到，當前晶片產業極度依賴少......

英國《金融時報》報導指出，中芯國際近期正在測試由上海初創企業「宇量昇科技」研發的首部國產DUV（深紫外光）光刻機，這款設備採用浸沒式技術，原理與荷蘭阿斯麥（ASML）的系統相似，知情人士透露，試驗初期結果「令人鼓舞」，但距離大規模量產仍存在不確定性，消息傳出後，中國科技股齊揚，其中百度單日大漲超過15%，創下今年新高。中國光刻機技術突破的實際意義是什麼？這次......

2017年美國總統川普開啟美中科技戰以來，對全球電子業持續造成衝擊，而半導體是美中科技戰主要戰場之一，美國以禁止先進晶片和製造先進晶片的設備出口中國為主要手段進行制裁。對此，科技力智庫執行長烏凌翔在網路節目《烏鴉笑笑》中表示，短短一個月內，中國兩家機構發表了和EUV不同技術路徑的曝光設備，雖從量產角度而言比不上EUV，但這兩項產品是中國對抗美國半導體壓制的註......

中國人民大學國際關係學院副院長金燦榮近期表示，假設最終是以武力統一台灣，那肯定就沒有「一國兩制」了，將由「中共台灣省委」直接管理台灣。到時候很多產業也肯定會收歸國有，其中肯定包括台積電。可是我們也不要把台積電看太重，因為就他所知，中國大陸在晶片生產上，很快會有重大突破，到時台積電份量就沒那麼重了。金燦榮表示，台灣問題的解決是肯定的，只不過我們反覆地說，大陸中......

中國已有一台DUV（深紫外光）光刻原型機交付上海晶圓廠測試的消息，最近引發媒體關注。這台原型機雖然不是更先進的EUV（極紫外光），更還談不上商用程度，但在美國及其盟友日益收緊的出口管制下，中國確實正在傾全國之力加速半導體設備的國產化進程。一般認為中國即便造得出航空母艦、電動車、無人機，但面對光刻機這道天塹，恐怕北京也只能徒呼負負。不過如同華為在技術封鎖下，依......

中國近年受美國科技制裁影響，光刻設備受進口禁令限制，中國能否自製所需要的高階晶片受到全球關注。對此，科技力智庫執行長烏凌翔在網路節目《烏鴉．笑笑》中指出，中國已有一座較先進的DUV原型機已交付上海晶圓廠測試，該原型機由上海這公司研發製造，目前仍在調試完善中。烏凌翔說明，宇量昇科技有限公司為半導體設備製造商新凱來的子公司，位於華為半導體生態系中，主要研發半導體......

中國人民日報10日刊登了華為創辦人任正非的專訪，在受訪時連續提到「這句話」兩次。對此，科技力智庫執行長烏凌翔在網路節目《烏鴉笑笑》中表示，這句話顯然是華為發展技術的指導戰略，華為在2019年被美國制裁時起，便按照當時內外部大環境逐步發展出戰略，現已可見成效。烏凌翔指出，任正非的這句話第一次出現於談論晶片製造，記者問及昇騰晶片被美國警告使用風險對華為的影響，任......

近期中國半導體產業不斷有技術突破的消息傳出，包括先進晶片製程，以及有望自主研發光刻機設備等。「中國半導體領頭羊」之一的張汝京，日前受全美保釣促統聯合會邀請，透過視訊會議，以「中國半導體25年來之發展」為題發表演講，《風傳媒》獨家採訪。他預估，快則兩年，慢則三至四年，中國大陸可以解決光刻機光源問題。張汝京也坦言，先進AI晶片生產上的限制，還是需要突破。從落後世......

中國在美國晶片制裁下積極實現半導體製造自主，而在生產過程最為重要的光刻機發展上，近期傳出有所突破。媒體人烏凌翔在節目《烏鴉笑笑》中提到，中國有一座比較先進的自製光刻機近來已交付中芯（SMIC），推測應是由深圳新凱來所製造出的原型機，不過距離實際的應用，仍有一大段的距離需要克服。

說起蔡司，大家會直接聯想到的是什麼？眼鏡的鏡片？相機的鏡頭？還是跟台積電有著間接關係的蔡司半導體？不管是那個部門，隨便都是年營收上千萬歐元的事業。這次壹哥前往位在德國符騰堡州（Baden-Württemberg）的上科亨（Oberkochen），做了一次相當難得的蔡司總部直擊與相關訪談，跟大家分享蔡司的過去、現在與未來。

中國哈爾濱工業大學日前在官方新聞網宣布，「放電等離子體極紫外光刻光源」2個項目獲得獲黑龍江省高校和科研院所職工科技創新成果轉化大賽一等獎，顯示被稱為「曝光機心臟」的極紫外（EUV）光源技術有了突破。對此，媒體人唐湘龍分析，中國看似正努力度過美國的科技打壓封鎖，但是今年有可能用彎道的方式，從跟隨者變成走到前面的人。

拜登政府下台前祭出史無前例嚴厲的晶片管制措施，如果川普上台後延續其措施，對全球晶片產業的衝擊與影響也將會是史無前例大，無論那些半導體廠商自我評估的真假對錯，但要不受影響是不可能，即使強如台積電亦無例外，這些措施甚至可能重塑產業與全球貿易體制。

中國工業和信息化部公布了一份重大技術裝備推廣目錄，其中包括一項國產「氟化氬光刻機」（DUV光刻機）。這台DUV光刻機的核心技術指標包括：晶圓直徑300mm、照明波長248nm、分辨率≦65nm、套刻≦8nm。中國媒體指出，這意味著中國已可自主生產「8奈米及以下的晶片」。

全球半導體設備大廠艾司摩爾所生產的極紫外光曝光機（EUV）被譽為地表最複雜的機器，該公司歷經10年研發，推出最新一代曝光機（HighNAEUV），造價高達3.8億美元（相當新台幣121.3億元）。而HighNAEUV產品管理副總裁史東斯（GreetStorms）是一位敢於向老闆說不的女性主管，她強調，「在艾司摩爾工作最棒的是，公司鼓勵員工勇於思辯，相互挑戰，找出最佳解決方案。」

台海局勢愈發緊張，近期中國動作頻頻，也促使國際關注侵台可能性，不少外媒都曾猜測地緣政治危機升高，對於半導體龍頭「護國神山」台積電的後果，可能就是被美國或台灣自行摧毀；國外卻有分析師認為，北京的目的可能就是想摧毀台積電，藉此重創台灣和南韓的半導體，因為這樣一來，中國晶片才可能崛起，進一步超越美國。

荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）計畫於2030年推出針對1奈米以下製程的Hyper-NA極紫外光機（EUV），然而有韓媒認為，雖然這是半導體產業邁入埃米（angstrom）時代的必要設備，要價多達7.24億美元（折合約237億台幣）以上的高昂生產成本恐怕會讓台積電、三星、英特爾都望而卻步。

中國通訊科技巨頭華為號稱要超越在中國市佔率90%的輝達A100，卻因為美國制裁因素，再加上中芯國際代工的良率極低、設備頻繁故障，導致華為的第二代AI晶片「昇騰910B」難以擴充產能。

日前大陸官媒「央視軍事」發布一段影片，指中國航天科工二院699廠特級技師葉輝是頂級研磨師，憑藉一雙巧手，實現了5奈米的超精密研磨。並稱，葉輝研磨的鉭片，表面粗糙度達到5奈米等級，只有特殊儀器才能檢測。影片一出，隨即遭到網友無情嘲諷，笑稱「離手造晶片不遠了吧？」「徒手造晶片？」「手搓晶片實錘了！」

香港英文報紙《南華早報》1日引述知情人士說法，報導了北方華創科技集團（NauraTechnologyGroup）正在研發光刻系統的消息，華為也申請了「自對準圖案四重化」（SAQP）的專利。雖然目前還不知道何時會有成果，但《南華早報》說，中國廠商正在嘗試各種變通方法，希望能在沒有艾司摩爾（ASML）光刻機支援的情況下自力生產五奈米晶片，突破美國對中國晶片製造能力的打壓。

英特爾（Intel）執行長季辛格（PatGelsinger）近日出席瑞士達沃斯世界經濟論壇（WEF）時指出，他認為中國在晶片製程方面落後10年。

美中科技競爭氛圍中，中國晶片企業搶購半導體設備。中國今年9月從荷蘭進口曝光機數量、金額激增；荷蘭半導體設備供應商艾司摩爾（ASML）第3季在中銷售額占其整體比重達46%。

美國政府通過國會授權設立的一家機構發布報告稱，中國在美國以及荷蘭和日本先後發布晶片禁令之間的時間空檔內，大幅提高了進口晶片製造設備的金額。另有市場調查數據顯示，華為手機10月銷量飆升83%。

拜登政府本周擴大了針對中國晶片行業的限制措施，旨在阻止北京獲得美國尖端技術來加強其軍事力量。過去一段時間，中國半導體設備領域發展迅速，但本土廠商仍缺乏提供EUV等全套設備的能力。

路透社報導，為限縮中國的晶片產業發展，美國和荷蘭將再次聯手，要求企業出口高階晶片設備到中國應申請許可證。兩國將分別採取哪些措施？對於近期多項出口管制，業界人士怎麼看？

拜登（JoeBiden）政府成功把日本和荷蘭拉上對華晶片出口限制的戰車，這是美國外交的一個勝利。但維持這一戰略將需要做實質性的工作。

農曆春節期間，美國在半導體晶片領域對中國發起的限制進一步升級。

我請專家為我解說EUV光刻機的構造和原理，光聽就覺得規模大到令人聞之生畏，技術更是艱難得超乎想像。

台積電先進製程極紫外光（EUV）的製造商荷蘭ASMLHolding，上周公布第二季業績，營收較上年增長35%，至54億歐元（合55億美元）；第二季利潤增長36%，達到14億歐元。

英特爾（Intel）4奈米預計今年下半年量產，將採用極紫外光（EUV）系統，與7奈米相比，在相同功耗可提升效能逾20%。

台積老將蔣尚義退出中芯股東會，為何代表中國半導體產業「自立自強」的態勢底定？

ASML為全球最大半導體製程設備商，是唯一一家能夠生產極紫外光(EUV)光刻機的廠商，在半導體產業佔有關鍵地位。專家認為，隨著越來越多國家致力提高自主半導體製造，EUV機台需求只會更高，進而帶動ASML市值突破5,000億美元。

英特爾上周二宣布，計劃在未來10年投入950億美元，在愛爾蘭及另外兩個地點設立晶圓廠，以提高其在歐洲的晶片製造能力。

中美科技戰，從川普開打至今，美國似乎佔了上風，其中最重要的武器之一，就是荷蘭ASML製造的極紫外光刻機（又稱：EUV光刻機），舉凡五奈米以下的製程，都需要EUV才能把積體電路投影、蝕刻在晶片上。

英特爾（Intel）宣布斥資200億美元在美國亞利桑那州新建兩座晶圓廠，新廠將採用EUV設備，法人預期，艾司摩爾（ASML）可望受惠，家登與帆宣也將沾光。

號稱投資人民幣逾1000億元的晶片生產公司武漢弘芯，最近面臨資金鏈斷裂，目前其中文版官網已無法連上。這個案例也讓中國半導體產業面臨的問題再次浮上檯面。