# EUV技術  

在先進製程競賽白熱化的時刻，台積電向智慧財產及商業法院遞出訴狀，正式指控前資深副總羅唯仁違反「保密義務」及「競業禁止條款」，直指他離職隨即轉任英特爾執行副總裁，使關鍵技術恐落入競爭對手手中，這起案件迅速成為全球科技業焦點，一來因羅唯仁橫跨兩大晶圓巨頭的特殊經歷，二來是在2奈米與18A賽局緊繃之際爆發，敏感度非比尋常，產業人士直言，這已不只是法律問題，而是兩間......

荷蘭科技記者、專欄作家馬克．海因克（Mark Heijink）長年追蹤ASML發展，並在新書《造光者》（The Lightmaker）中，揭示這家半導體設備巨頭的崛起歷程。他指出，ASML之所以能稱霸EUV微影技術，不僅靠技術藍圖，更靠策略：讓英特爾、三星、台積電三大晶片巨頭聯手投資，換取資金挹注，進一步擴充人力、收購技術團隊，並在荷蘭建立研究機構，布局長遠......

英國《金融時報》報導指出，中芯國際近期正在測試由上海初創企業「宇量昇科技」研發的首部國產DUV（深紫外光）光刻機，這款設備採用浸沒式技術，原理與荷蘭阿斯麥（ASML）的系統相似，知情人士透露，試驗初期結果「令人鼓舞」，但距離大規模量產仍存在不確定性，消息傳出後，中國科技股齊揚，其中百度單日大漲超過15%，創下今年新高。中國光刻機技術突破的實際意義是什麼？這次......

從蘋果、輝達到高通、亞馬遜等，紛紛將產品交由台積電生產；輝達執行長黃仁勳日前快閃來台，鎖定Rubin平台的合作，凸顯台積電技術優勢已被綁定需求，在全球競爭中穩居領先地位。文／吳旻蓁日前，台積電2奈米技術洩露一事驚動市場。檢方調查發現，確認至少9名工程師涉案，其中包括3名來自專注於2奈米試產的新竹寶山Fab 20廠，以及6名來自研發支援部門的員工。由於台積電是......

華爾街投資銀行高盛（Goldman Sachs）認為，在先進晶片製造的核心科技——微影技術（lithography）方面，中國目前落後西方至少20年。Wccftech 1日報導，微影技術是阻止中國製造高階晶片的唯一瓶頸，而最先進的微影設備是由荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding N.V.）打造，由於這些設備必須使用源自美國的零組件，因此美國......

面對美國技術封鎖禁令，儘管中國近年在半導體領域取得一定進展，但在晶片製造能力方面，仍與英特爾、台積電存在明顯差距，甚至曾被艾司摩爾（ASML）執行長ChristopheFouquet評為「落後10到15年」。不過根據外媒報導，中國自主研發的EUV（極紫外光）設備近期取得重大突破。對此，媒體人烏凌翔指出，其它國家研發的技術發表在期刊上終究是別人的，中國自己照做一遍，就算結果不是世界第首創，也是自己掌握的技術，將來不會被境外敵對勢力掐脖子。

台積電業務開發資深副總經理張曉強14日表示，台積電的A16技術製程節點不一定需要用到艾司摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NAEUV）。