繼台積電(2330)宣布攜手艾司摩爾(ASML,NASDAQ:ASML)推動12吋High NA EUV光罩後,英特爾(Intel,NASDAQ:INTC)今(8)日也公布最新進展。Intel Foundry目前已在大量製造環境中使用High NA EUV,並將其導入Intel 18A部分製程層、生產部分代號Panther Lake的Intel Core U......
為替高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)技術進入先進製程量產掃除雙光罩拼接限制,台積電(2330)與全球微影設備大廠艾司摩爾(ASML,NASDAQ:ASML)今(8)日宣布展開產業合作,將High NA EUV光罩由現行6吋升級至12吋。雙方目標於2031年前建立12吋光罩試產線,並於2033年前讓相關微影系統全面就緒,支援先進製程量產。台積電並表......
High NA EUV(高數值孔徑極紫外光微影)正式跨越研發驗證,邁向高量產製造。ASML(NASDAQ:ASML;Euronext Amsterdam:ASML)High NA EUV產品管理資深副總裁Greet Storms於SEMICON Taiwan 2026指出,EXE:5200B已在AB模式下達到每小時135片晶圓的驗收產能,全球EXE系統累計曝......