微影技術  

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Intel Foundry目前已在大量製造環境中使用High NA EUV,並將其導入Intel 18A部分製程層、生產部分代號Panther Lake的處理器。(AI製作)

Intel High NA EUV累計處理逾100萬片晶圓!18A特定層效能不輸現行EUV,攜ASML推6×12吋光罩

台積電、ASML攜手推12吋High NA EUV光罩。(AI製作)

因應AI晶片複雜化!台積電、ASML攜手推High NA EUV光罩從6吋放大至12吋,2031年建試產線、2033年微影系統就緒

ASML 高數值孔徑極紫外光微影設備(High NA EUV)產品管理副總裁 Greet Storms 。(ASML提供)

SEMICON Taiwan 2026直擊》High NA EUV迎量產元年!ASML:全球曝光逾135萬片、英特爾18A領頭投產

全球微影設備龍頭ASML近期公布極紫外光(EUV)技術最新進展,台積電的先進製程有望成最大受益者。(資料照,美聯社)

ASML助攻台積電ADR飆漲?EUV效能進化「吞大力丸」 專家:台廠供應鏈等分紅

高盛認為,中國在先進晶片製造的微影技術方面,目前落後西方至少20年。(示意圖/取自unplash)

高盛:中國先進晶片製造技術至少落後西方20年