EUV微影技術  

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《造光者》作者海因克(Marc Hijink)指出,ASML之所以能稱霸 EUV 微影技術,不僅靠技術藍圖,更靠策略。(劉偉宏攝)

荷蘭ASML「造光者」啟示錄:從技術霸主到經濟挑戰,半導體戰局誰能勝出?

高盛認為,中國在先進晶片製造的微影技術方面,目前落後西方至少20年。(示意圖/取自unplash)

高盛:中國先進晶片製造技術至少落後西方20年