隨著半導體製程的日新月異，晶片確實變的體積更小、性能更強、功耗也有顯著改進。不過製造新製程晶片的極紫外光微影設備（EUV），卻是一頭吃電沒有底線的耗能野獸，這讓《彭博新聞社》質疑，像台灣、南韓這些高度倚靠半導體產業的國家「電到底夠不夠」，若要兼顧減碳而放棄火力發電，肯定更將前途多難。
《彭博》26日在綠能系列報導中指出，製造先進半導體的設備可說是現代工程的一項奇蹟。這種被稱為極紫外光微影設備（Extreme ultraviolet lithography，簡稱EUV）的機器，可以用人眼不可見的光波照射晶圓，將光罩上的電路圖案轉印到晶圓的光阻劑塗層，並且達到奈米等級的精確程度。這種技術使用強大的雷射光源脈衝擊中錫的細小液滴，將其轉變成電漿，然後發出所需波長的光。
