# 極紫外光刻機  

布里安娜・霍爾（BriennaHall）在一家你可能沒聽說過的絕頂重要的公司從事著最有價值的工作。

荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）計畫於2030年推出針對1奈米以下製程的Hyper-NA極紫外光機（EUV），然而有韓媒認為，雖然這是半導體產業邁入埃米（angstrom）時代的必要設備，要價多達7.24億美元（折合約237億台幣）以上的高昂生產成本恐怕會讓台積電、三星、英特爾都望而卻步。

中國通訊科技巨頭華為號稱要超越在中國市佔率90%的輝達A100，卻因為美國制裁因素，再加上中芯國際代工的良率極低、設備頻繁故障，導致華為的第二代AI晶片「昇騰910B」難以擴充產能。

香港英文報紙《南華早報》1日引述知情人士說法，報導了北方華創科技集團（NauraTechnologyGroup）正在研發光刻系統的消息，華為也申請了「自對準圖案四重化」（SAQP）的專利。雖然目前還不知道何時會有成果，但《南華早報》說，中國廠商正在嘗試各種變通方法，希望能在沒有艾司摩爾（ASML）光刻機支援的情況下自力生產五奈米晶片，突破美國對中國晶片製造能力的打壓。

路透社報導，為限縮中國的晶片產業發展，美國和荷蘭將再次聯手，要求企業出口高階晶片設備到中國應申請許可證。兩國將分別採取哪些措施？對於近期多項出口管制，業界人士怎麼看？

美聯社（AssociatedPress）星期二（4月4日）的一則報導說，出於對美國阻止中國獲取製造先進晶片技術的憤怒，中國領導人似乎正在努力想出如何在不損害自己在電信、人工智慧和其他行業的雄心的情況下進行報復。

拜登（JoeBiden）政府成功把日本和荷蘭拉上對華晶片出口限制的戰車，這是美國外交的一個勝利。但維持這一戰略將需要做實質性的工作。

台積電先進製程極紫外光（EUV）的製造商荷蘭ASMLHolding，上周公布第二季業績，營收較上年增長35%，至54億歐元（合55億美元）；第二季利潤增長36%，達到14億歐元。

英特爾上周二宣布，計劃在未來10年投入950億美元，在愛爾蘭及另外兩個地點設立晶圓廠，以提高其在歐洲的晶片製造能力。

中美科技戰，從川普開打至今，美國似乎佔了上風，其中最重要的武器之一，就是荷蘭ASML製造的極紫外光刻機（又稱：EUV光刻機），舉凡五奈米以下的製程，都需要EUV才能把積體電路投影、蝕刻在晶片上。