High NA EUV(高數值孔徑極紫外光微影)把數值孔徑從0.33提高至0.55,帶來更高解析度及成像對比,卻也同時縮小景深與曝光視場,衍生對焦裕度不足、晶片圖形必須拼接兩大難題。ASML(NASDAQ:ASML;Euronext Amsterdam:ASML)High NA EUV產品管理資深副總裁Greet Storms於SEMICON Taiwan ......
全球知名的比利時微電子研究中心(imec)在半導體與數位科技研發方面居領導地位,imec執行長范登霍夫(Luc Van den hove)9月初在台灣舉行的imec技術論壇(ITF Taiwan)中指出,「追求自給自足將導致平庸化,如果每個區域都朝自給自足發展,將導致退步。」總部位於比利時魯汶的imec成立於1984年,今年歡慶40周年,最初研究人員只有70......