# 極紫外光（EUV）  

《路透社》18日獨家報導，在深圳一座高度戒備的實驗室中，中國科學家已打造出一台可產生「極紫外光（EUV）」的晶片製造設備原型。這正是美國多年來試圖全面封鎖，以維持西方在人工智慧與先進武器領域優勢的關鍵技術。報導引述消息人士指出，這台原型機已於 2025年初完成，目前正在測試階段，體積幾乎佔滿整個廠房樓層。該設備由一支曾任職荷蘭半導體龍頭艾司摩爾的工程師團隊打......

艾司摩爾（ASML）是台積電最重要的夥伴，主要因為這家荷蘭公司負責的極紫外光系統，能產出地球上最先進的晶片，一台極紫外光曝光機售價約為3.7億美元，是全球最貴的生產設備之一。

荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）計畫於2030年推出針對1奈米以下製程的Hyper-NA極紫外光機（EUV），然而有韓媒認為，雖然這是半導體產業邁入埃米（angstrom）時代的必要設備，要價多達7.24億美元（折合約237億台幣）以上的高昂生產成本恐怕會讓台積電、三星、英特爾都望而卻步。

中國通訊科技巨頭華為號稱要超越在中國市佔率90%的輝達A100，卻因為美國制裁因素，再加上中芯國際代工的良率極低、設備頻繁故障，導致華為的第二代AI晶片「昇騰910B」難以擴充產能。

台積電業務開發資深副總經理張曉強14日表示，台積電的A16技術製程節點不一定需要用到艾司摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NAEUV）。

香港英文報紙《南華早報》1日引述知情人士說法，報導了北方華創科技集團（NauraTechnologyGroup）正在研發光刻系統的消息，華為也申請了「自對準圖案四重化」（SAQP）的專利。雖然目前還不知道何時會有成果，但《南華早報》說，中國廠商正在嘗試各種變通方法，希望能在沒有艾司摩爾（ASML）光刻機支援的情況下自力生產五奈米晶片，突破美國對中國晶片製造能力的打壓。

在與《晶片戰爭》（ChipWar）作者米勒（ChrisMiller）對談中，台積電創辦人張忠謀說：「起碼在晶片產業中，全球化和⾃由貿易已死。……毫無疑問全球化已死，⾃由貿易還沒死透透，但也差不多了。」