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才說不甩美國制裁、可製8nm晶片?陸媒挖細節「打臉中國DUV曝光機」:連28nm都做不出
中國工業和信息化部(簡稱工信部)近日在官網發布了「首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)」通知,曝光多項重點發展的技術裝備,涵蓋一項國產「氟化氬光刻機」(DUV曝光機),其核心技術指標包括晶圓直徑300mm、照明波長248nm、解析度≦65nm、套刻≦8nm,還傳出已可自主生產「8奈米及以下的晶片」。不料,如今就連中國自家媒體也打臉,此款DUV曝光機其實只能生產65奈米或以下晶片!
古靜兒
2024-09-17 13:12
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