浸潤式DUV  

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科技力智庫執行長烏凌翔表示,上海公司宇量昇可能不單只是要繞過ASML的專利障礙,而是開闢新的技術路徑,研究出性能更好的曝光機。圖為ASML光刻機模型。(資料照,顏麟宇攝)

中國曝光機大躍進?傳成功生產7奈米 專家曝「開闢全新技術」可期:超越ASML