# 深紫外光曝光機  

中國工業和信息化部近日在官方網站發布了「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）」的通知。該目錄涵蓋了多項國家重點發展的技術裝備，其中包括了積體電路生產領域的重大突破。工信部強調，這些重大技術裝備對國家綜合實力和安全至關重要，要求地方政府加強相關支持政策的協同。

台積電業務開發資深副總經理張曉強14日表示，台積電的A16技術製程節點不一定需要用到艾司摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NAEUV）。

美中科技競爭氛圍中，中國晶片企業搶購半導體設備。中國今年9月從荷蘭進口曝光機數量、金額激增；荷蘭半導體設備供應商艾司摩爾（ASML）第3季在中銷售額占其整體比重達46%。

美國政府對中國實施晶片製造設備出口管制措施，其中曝光機設備成為關鍵；專家認為，管制雖然不會立即摧毀中國的晶片製造商，但將「極大地限制」中國製造最先進半導體能力。

荷蘭政府在上周五公布了新規定，半導體公司在向國外出售某些類型的晶片製造設備之前，必須獲得政府的批准，這項措施主要瞄準荷蘭設備大廠ASML的深紫外光設備輸出中國的限制。

荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長韋尼克25日說，美荷政府正在就該公司外銷中國的新限制措施進行談判，但艾司摩爾今年對中國出口可能會與去年維持相同水準。