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高數值孔徑極紫外光微影（High NA EUV）的量產導入時程逐漸明朗。艾司摩爾（ASML）執行長Christophe Fouquet今（14）日表示，台積電（2330）確認將在2030年前後，把High NA導入大量生產；三星電子（005930，韓國交易所）則規劃從2028年開始用於大量生產。Fouquet指出，High NA計畫啟動至今已超過十年，如今各......