# 刻光機  

美國持續在先進晶片製程上對中國採取嚴格的管制措施，科技力智庫執行長烏凌翔在《烏鴉笑笑》節目中引述外媒WCCFtech報導指出，最新報告顯示，中國自主研發的光刻機（EUV）將於2025年第三季進入試產，並採用新型的LDP光源技術，若中國成功自主研發出光刻機，對於現在的美中科技競爭格局，乃至於整個半導體產業的晶片生產效率、良率都將造成重大的影響。