# high-NA  

在先進製程競賽白熱化的時刻，台積電向智慧財產及商業法院遞出訴狀，正式指控前資深副總羅唯仁違反「保密義務」及「競業禁止條款」，直指他離職隨即轉任英特爾執行副總裁，使關鍵技術恐落入競爭對手手中，這起案件迅速成為全球科技業焦點，一來因羅唯仁橫跨兩大晶圓巨頭的特殊經歷，二來是在2奈米與18A賽局緊繃之際爆發，敏感度非比尋常，產業人士直言，這已不只是法律問題，而是兩間......

台積電2奈米即將量產，並同時往1.4奈米製程研發邁進，不過在「埃米時代」中，台積電不打算使用艾司摩爾（ASML）最先進的「高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）」曝光機，引起產業關注。對此，科技媒體《Wccftech》指出，台積電使用「另一項技術」，來替代一台單價4億美元的最新曝光機，無疑更具成本效益，不過也有缺點需要克服。報導表示，台積電隨著進一步邁......

「如果我們無法確保重要外部客戶，並實現14A的客戶里程碑，那麼繼續開發與製造英特爾14A與後續節點將不再具經濟可行性。」美國晶片大廠英特爾（Intel）24日在向美國證交會提交的10-Q財報中首度明言，若無法取得具體外部大客戶的承諾，旗下14A（1.4奈米）與後續技術節點的開發可能全面中止，這代表美國在尖端晶片製造領域的主導地位將面臨嚴重威脅。 如果14A取......

台積電1.4奈米製程的技術A14將在未來推出，外界也關注是否會採用艾司摩爾（ASML）最新的高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV）。不過根據外媒《路透社》報導，台積電業務開發資深副總裁張曉強對此直言，台積電仍然找不到「非用不可」的理由去採用High-NA曝光機，對此還在評估當中。High NA EUV價格近4億美元，是晶圓廠中最昂貴的生產工具，晶......

全球半導體設備大廠艾司摩爾所生產的極紫外光曝光機（EUV）被譽為地表最複雜的機器，該公司歷經10年研發，推出最新一代曝光機（HighNAEUV），造價高達3.8億美元（相當新台幣121.3億元）。而HighNAEUV產品管理副總裁史東斯（GreetStorms）是一位敢於向老闆說不的女性主管，她強調，「在艾司摩爾工作最棒的是，公司鼓勵員工勇於思辯，相互挑戰，找出最佳解決方案。」

荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）計畫於2030年推出針對1奈米以下製程的Hyper-NA極紫外光機（EUV），然而有韓媒認為，雖然這是半導體產業邁入埃米（angstrom）時代的必要設備，要價多達7.24億美元（折合約237億台幣）以上的高昂生產成本恐怕會讓台積電、三星、英特爾都望而卻步。

彭博報導，荷蘭半導體生產設備製造商艾司摩爾控股公司（ASML）指出，今年將交付最新型的高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NAEUV）給台積電。