# 中國光刻機  

英國《金融時報》報導指出，中芯國際近期正在測試由上海初創企業「宇量昇科技」研發的首部國產DUV（深紫外光）光刻機，這款設備採用浸沒式技術，原理與荷蘭阿斯麥（ASML）的系統相似，知情人士透露，試驗初期結果「令人鼓舞」，但距離大規模量產仍存在不確定性，消息傳出後，中國科技股齊揚，其中百度單日大漲超過15%，創下今年新高。中國光刻機技術突破的實際意義是什麼？這次......

美國對中祭出晶片禁令，中國無法取得先進曝光機（EUV），晶圓製造技術依然落後於主流先進製程，華為最先進晶片仍採用7奈米。不過最近有消息傳出，中芯研發的5奈米製程「良率已達60%到70%」，驚人數字瞬間在網上瘋傳，不過這說法並不被許多專家買單，外國知名科技爆料者也直言，據外媒《Wccftech》報導，中國爆料者「定焦數碼」在微博上指出，中芯5奈米良率已達60%......

在川普（Donald Trump）為了「讓美國再次偉大」而亂拳霸凌世界時，台積電董事長魏哲家3月3日於白宮宣布大規模赴美投資案。站在一旁的川普滿臉得意洋洋，台灣社會卻普遍擔心優勢產業會否因此被美國搶奪。曾在美國IBM華生研究中心（T. J. Watson Research Center）從事研發工作30年的退休工程師張一飛接受《風傳媒》專訪，指出台積電赴美投......

中國的光刻機進口受禁令管制，而深圳半導體廠商新凱來近期展示其研發的半導體製造設備，更號稱可生產5奈米晶片，對此，前立委雷倩在網路節目《全球大視野》中表示，新凱來的技術背景很硬，除了新亮相的產線，中國近期也有新技術路徑。

中國半導體設備傳出最新突破，據中媒《快科技》報導，中國科學院近日成功研發突破性的深紫外光曝光機(DUV)，可發射波長193nm的光子，與目前主流波長一致，理論上能將半導體工藝推進至3奈米，並且在技術上與艾司摩爾（ASML）、佳能（Canon）、尼康（Nikon）等國際大廠不同；不過目前輸出功率、頻率都與商用水準有落差，仍需繼續研發。