首爾國立大學經濟學教授李根說，以上一代的深紫外光刻生產先進的晶片這種創造性的另類思維可能對提振中國半導體前景大有幫助。
中國科學院下屬的微電子研究所積體電路先導工藝研發中心網站上的一篇文章說，鑑於DUV涵蓋了大部分數字晶片和幾乎所有的模擬晶片。所以，「完全掌握DUV技術就能在各類晶片領域有所建樹」。
不過在另一方面，這篇文章也指出，隨著先進製程向5奈米及以下先進製程進化，EUV必不可少。
在美國的製裁之下，中國無法獲得生產最高端晶片的EUV製造設備，也缺乏先進的設計軟體，這些大都是由美國公司主導，包括台積電在內製造最先進的晶片也離不開美國技術。中國目前的水平在14奈米，與國際領先水平有2-3代的代差；而韓國的三星電子上星期（6月30日）已宣布開始大規模生產3奈米晶片，成為全球首家量產3奈米晶片的公司。中國目前落後至少十年之久。
戰略與國際研究中心的劉易斯說，中國在這方面投入了巨額資金，最終也許會趕上，但不會在近幾年內。他說：「如果運氣好的話，中國有可能在2030年的時候有能力生產較為高端的晶片。」
夏威夷智庫東西方中心資深研究員丹尼・羅伊（Denny Roy）對美國之音說，中國政府擁有龐大的財政資源、從事商業間諜活動的網路駭客大軍、無與倫比的全球經濟影響力，所以他預計如果北京不遺餘力打造本土高端晶片，如果國內也沒有出現某種嚴重的經濟或政治動蕩的話，「中國最終將獲得這種能力。」但是，他說，如果中國以外的大公司能不斷保持創新，即使在中國進步的同時，他們也可以一直保持領先。
