中國大陸傾力發展第三代半導體,我們穩贏嗎?

2020-09-22 09:35

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美國對華為禁令生效,中國急起直追、準備不計代價提升自製率,但在此之前,全球半導體業者都會先受到衝擊。(美聯社)

美國對華為禁令生效,中國急起直追、準備不計代價提升自製率,但在此之前,全球半導體業者都會先受到衝擊。(美聯社)

你應該知道的是,川普步步進逼先打華為後打中芯,但是大陸有14億人口內需市場,禁令無法打垮大陸只能拖慢發展速度。第一代半導體比的是先進製程,第三代半導體比的是材料製造,材料製造是基礎工業,因此政府應該重視基礎工業:材料、機械、光學、化學等,同時讓半導體供應鏈在地化,才能提升產業競爭力,面對未來的挑戰。

外電引述消息指出,大陸將在10月召開的19屆五中全會提出「十四五(2021~2025年)規劃」,也就是第14個5年發展計畫,將投資10兆人民幣發展包括無線網路、人工智慧等技術領域,其中因應美方制裁,大陸將全力支持包含第三代半導體在內的半導體產業。到底什麼是「第三代」半導體?第一代和第二代半導體又是什麼?台灣在第一代半導體領先,那麼在第三代半導體也穩贏嗎?事實恐怕和你想的不一樣!

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川普步步進逼 先打華為後打中芯

美國的總統大選原本是自己的事,卻因為川普民調落後搞到全球雞飛狗跳,川普步步進逼先打華為後打中芯,媒體報導國際半導體產業協會(SEMI)將致函美國商務部長,如果中芯遭列入黑名單,大家將更難供貨中芯,從而危害美國科技的領先地位,因為此舉將使世界各國認為美國供貨「不可靠」,衝擊美商在世界各地的市場占有率。(延伸閱讀:華為受害股來了!PCB廠相互停產台灣產線、600正職員工全資遣!

總之打貿易戰是七傷拳,傷別人也傷自己,高通的晶片不能賣給華為損失也不小,讓華為的高階訂單全部轉給聯發科,造成聯發科短短三個月股價爆漲二倍,高通不甘心白白便宜了聯發科,因此向美國政府告狀把聯發科拖下水,現在聯發科也無法出貨給華為了!(延伸閱讀:將軍!日經獨家:台積電不再接受華為新訂單

華為的訂單無法使用台積電的先進製程,只好把希望全部放在中芯,讓中芯在短短兩個月股價爆漲三倍,現在川普又把矛頭指向中芯,這下大陸使用舊製程的晶片設計公司不能下單給中芯,只能下單給聯電,造成聯電短短兩個月股價暴漲二倍,會不會那天川普想想,又禁止聯電替大陸代工呢?全世界的人都在陪川普選總統,美國果然是世界的霸主呀!(延伸閱讀:華爾街日報》美中科技「離婚大戰」企業被迫選邊站,還可能加快中國半導體發展?

川普禁令無法打垮大陸 只能拖慢發展速度

大陸沒有先進的極紫外光(EUV:Extra UV)設備,因此5奈米以下的元件無法製作,而現在中芯連深紫外光(DUV:Deep UV)都沒有,等於連20奈米以下的元件都無法製作,目前只能轉向採購歐洲或日本的設備,然而即便是歐洲與日本的設備裡也會有美國的零件,要完全避開美國設計或製造的零件幾乎不可能,該怎麼辦呢?

長期以來世界各國廠商的供應鏈全球化,廠商設計產品很難不用到美國的零件,現在一下子要換掉也有困難。中芯另外一個選擇是使用國內的設備,但是轉換供應鏈需要3至5年的時間,這段艱困的時間會拖慢大陸發展的速度,但是卻不可能打垮大陸,因為大陸有14億人的內需市場,大家共體時難足以支持國內廠商渡過難關,沒有先進製程那就用舊製程,不過就是手機大了一些,只要大家願意仍然能夠支撐起華為與中芯,此外大陸有深厚的基礎工業,可以自行開發半導體設備,需要的只是時間。(延伸閱讀:台積電人才外流危機!日經:中國企業砸下重金,挖角超過100位工程師

如同手機的世代(3G、4G、5G) 半導體也有世代

第一代半導體是以矽(Si)材料為主,應用在處理器、記憶體、類比晶片、電源晶片等產品;第二代半導體是以砷化鎵(GaAs)材料為主,應用在射頻晶片;第三代半導體是以碳化矽(SiC)、氮化鎵(GaN)材料為主,應用在高功率的電源晶片、高頻率的射頻晶片,我們先簡單介紹一下這些晶片的種類和應用:

➩處理器:應用在各種電子產品的運算功能,例如:中央處理器(CPU)、微處理器(MPU)、數位訊號處理器(DSP)、圖形處理器(GPU)、微控制器(MCU)等。

➩記憶體:應用在各種電子產品的儲存功能,例如:隨機存取記憶體(RAM)、唯讀記憶體(ROM)、快閃記憶體(Flash ROM)等。

➩類比晶片:應用在各種電子產品處理連續的電壓訊號,例如:類比與數位轉換器(ADC/DAC)、放大器(Amplifier)、濾波器(Filter)、混頻器(Mixer)等。

➩電源晶片:進行交流電(AC)與直流電(DC)之間的電壓轉換,例如:變壓器(Transformer)、整流器(Rectifier)、穩壓器(Regulator)、逆變器(Inverter)等。

➩射頻晶片:應用在手機與基地台的無線通訊處理電磁波訊號,例如:功率放大器(PA)、低雜訊放大器(LNA)、射頻開關(RF switch)、濾波器(Filter)等。

所有電子產品都不能缺少的電源供應器

所有的電子產品都需要電源才能工作,提供電子產品電源的裝置稱為「電源供應器(PSU:Power Supply Unit)」,就是大家的手機或電腦充電時大大的那一個充電器,充電時還發熱,大家會不會好奇,為什麼充電器一定要做這麼大呢?那是因為電源供應器裡有許多主動元件(MOSFET、IGBT)與被動元件(電阻、電容、電感),這些元件必須承受高功率,因此體積很大,而且充電時會有能量損失,電能轉換成熱能,因此還會發熱。

由於牆壁上的插座提供的是110或220伏特(V)的交流電(AC),但是幾乎所有電子產品使用的積體電路(IC)都是直流電(DC),因此我們就必須使用電源供應器來轉換交流電與直流電,可以分為下列四種常常讓人頭昏腦脹的專有名詞:

➩變壓器(Transformer):將交流電(AC)轉換成不同電壓的交流電(AC)。

➩整流器(Rectifier):將交流電(AC)轉換成直流電(DC)。

➩穩壓器(Regulator):將直流電(DC)轉換成不同電壓的直流電(DC)。

➩逆變器(Inverter):將直流電(DC)轉換成交流電(AC)

逆變器(Inverter)通常使用在太陽電池,因為太陽能板是接收光能產生直流電(DC),而一般住家的插座是使用交流電(AC),因此必須經由逆變器將直流電(DC)轉換成交流電(AC)才能與目前發電廠產生的交流電力系統併網,這個轉換恰好與我們平常使用的電源供應器(交流電轉換成直流電)相反,故稱為「逆變(Invert)」。

使用碳化矽是為了高功率,使用氮化鎵是為了高頻率

目前用來製作電源晶片的主要元件有「金屬氧化物半導體場效電晶體(MOSFET:Metal Oxide Silicon Field Effect Transistor)」與「絕緣閘極雙極性電晶體(IGBT:Insulated Gate Bipolar Transistor)」,差別在元件的結構與製程,MOSFET結構與製程簡單,但是只能承受較小的功率,IGBT結構與製程複雜,但是可以承受較大的功率,如圖一所示。

圖一 MOSFET與IGBT差別在元件的結構與製程。(圖片來源:作者提供)
圖一 MOSFET與IGBT差別在元件的結構與製程。(圖片來源:作者提供)

我們國中都學過「功率(瓦特)」等於「電壓(伏特)」乘以「電流(安培)」,因此較大的功率意思是較大的電壓或電流。低功率的電源晶片應用在手機、電腦、電視的電源供應器;中功率的電源晶片應用在電冰箱、冷氣機、工廠設備的電源供應器;高功率的電源晶片應用在電動車、捷運、高鐵、太陽能與風力發電的電源供應器。

低功率的電源晶片是使用第一代半導體矽(Si)的MOSFET來製作,結構與製程簡單,如果要提高功率必須改用矽(Si)的IGBT來製作,結構與製程複雜;如果希望高功率又體積小則必須換材料,改用第三代半導體碳化矽(SiC)的MOSFET來製作;如果希望高頻率又體積小則必須換材料,改用第三代半導體氮化鎵(GaN)的MOSFET來製作,提高主動元件(MOSFET)的頻率可以縮小被動元件(電容、電感)的體積,這樣就會縮小整個電源供應器的體積,如圖二所示。

此外,高頻率的射頻晶片是使用第二代半導體砷化鎵(GaAs)來製作,體積較大製程成熟,如果希望高頻率又體積小則必須換材料,改用第三代半導體氮化鎵(GaN)來製作,第五代行動電話(5G)必須向下相容於4G、3G、2G,因此要支援的電磁波頻率很多,射頻晶片用量變多,為了維持手機原本的尺寸,必須縮小晶片因此功率放大器(PA)可以使用氮化鎵來製作。

圖二:矽(Si)、碳化矽(SiC)、氮化鎵(GaN)元件的功率與頻率(圖片來源:作者提供)
圖二:矽(Si)、碳化矽(SiC)、氮化鎵(GaN)元件的功率與頻率(圖片來源:作者提供)

台積電真的領先?罩門在那裡?

大家都知道台積電目前的製程領先英特爾與三星,這個功勞不只是台積電裡不眠不休的工程師,還有賴於國外供應鏈的協助,事實上台積電有兩大罩門,第一個是先進製程設備完全依賴進口,例如:艾司摩爾(ASML)、應用材料(Applied Materials)、科磊(KLA)、科林(Lam)等;第二個是晶圓製程裡需要的高階特用化學品幾乎依賴進口,例如:巴斯夫(BASF)、信越化學(Shin-Etsu Chemical)、東京應化(TOK)、亞東工業氣體(Air Liquide)等。

台灣太小、2300萬人無法養活台積電和聯發科,台灣基礎工業薄弱,沒有深厚的材料與機械工業,因此做不出飛機引擎、太空火箭;沒有深厚的光學工業,因此做不出工業與國防用的高功率雷射;沒有深厚的化學工業,因此半導體特用化學品幾乎依賴進口,因此政府應該重視半導體供應鏈在地化,包括:光學微影、薄膜成長、蝕刻、摻雜等設備,以及特用化學品:光阻劑、顯影液、氟化氫、高純度特殊氣體等。

第一代半導體比先進製程,第三代半導體比材料製造

第三代半導體只會「部分取代」第一代和第二代,而不會完全取代,電源晶片針對不同的功率與應用,低功率的仍然會繼續使用矽(Si)製作,尺寸要縮小的會改用氮化鎵(GaN),高功率的會改用碳化矽(SiC);射頻晶片針對不同的功率與應用,部分仍然會繼續使用砷化鎵(GaAs)製作,尺寸要縮小的可以改用氮化鎵(GaN)。

此外,第一代半導體比的是先進製程,也就是所謂的7奈米、5奈米、3奈米,但是電源晶片與射頻晶片必須承受較大的電壓或電流,因此必須改變的是材料,而不是使用先進製程,大陸第一代半導體落後,主要是因為起步較晚,能夠下單給台積電、聯電,就不會想要自己做,可以買便當吃就不會想要下廚房,但是這次的貿易戰使大陸體認到半導體製造的重要性,投入大量資金未來必然急起直追,川普對華為與中芯的禁令,對美國是短多長空,對大陸是短空長多,把大陸逼到牆角只能奮力一搏發展自己的技術,逼競爭對手激發出潛力,時間拖長還是會慢慢追上來的。(延伸閱讀:台積電前營運長都救不了?中國頂級半導體廠武漢弘芯周轉不靈,網站已關閉

第三代半導體比的是材料製作,也就是所謂的長晶,碳化矽長晶目前由美商科銳(Cree)遙遙領先,台灣和大陸一樣落後,材料製作是基礎工業,台灣向來不重視基礎工業,在碳化矽發展未必有利,因此政府應該重視基礎工業:材料、機械、光學、化學等,才能提升產業競爭力,面對未來的挑戰。


作者為台大電機博士,知識力專家社群創辦人。

責任編輯/周岐原

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